![](/upload/resize_cache/iblock/75d/370_120_140cd750bba9870f18aada2478b24840a/vacuum.jpg)
По запросу
Тип напыления: реактивный/нереактивный
Нагрев подложки: до 1000С
![](/upload/resize_cache/iblock/1f3/370_120_140cd750bba9870f18aada2478b24840a/kubitovye_sistemy.jpg)
По запросу
Установки Plassys для синтеза кубитовых устройств. Разработки компании PLASSYS соответствуют уровню стремительно развивающейся технологии создания кубитовых объектов и представлены серией систем, специально разработанных для формирования джозефсоновских переходов.
![](/upload/resize_cache/iblock/b79/370_120_140cd750bba9870f18aada2478b24840a/special_systems_3.jpg)
По запросу
Установки для осаждение алмазоподобных углеродных пленок (DLC), промежуточных слоев и формирования покрытий методами напыления и испарения на нескольких подложках одновременно.
![](/upload/resize_cache/iblock/199/370_120_140cd750bba9870f18aada2478b24840a/mw_pacvd.jpg)
По запросу
Микроволновый генератор: 6 кВт (импульсный режим источника)
Газовые линии : 4, дополнительно по запросу
Держатель подложки : 2"
Бихроматический ИК-пирометр: 475 – 1475 °C
Базовое давление в реакторе: 5×10-7 Мбар
Установка MV-PACVD SSDR 150 Plassys представляет собой микроволновый плазменный реактор, предназначенный для синтеза алмазной пленки и драгоценных камней. Используя плазму высокой плотности, реактор позволяет получать алмазные пленки высокой чистоты с высокой скоростью роста.
![](/upload/resize_cache/iblock/808/370_120_140cd750bba9870f18aada2478b24840a/machine_dusinage_ionique_vue_g_n_rale_300x274.jpg)
По запросу
Плотность тока: до 4 мA/см2
Диапазон энергий: от 100 до 1000 эВ
Установки ионного травления двух типов: реактивное травление ионным лучом (RIBE), травление посредством ионного луча с химическим ассистированием (CAIBE)
![](/upload/resize_cache/iblock/6af/370_120_140cd750bba9870f18aada2478b24840a/6af44e1e47ca6c158ba3d06731a67be6.jpg)
По запросу
MEB 550 S Plassys позволяет проводить осаждение слоёв без повреждений поверхности и обратную литографию. Система имеет 6-киловаттный источник электронов, шлюзовую камера и держатель для пластин диаметром 10 см и менее.
Система электронно-лучевого напыления MEB 550 S предназначена для исследований и разработок. Данное оборудование имеет отличную репутацию во всем мире.
![logo plassys.png logo plassys.png](/upload/medialibrary/d70/logo-plassys.png)
Plassys - французская компания, основанная в 1987 году. Основная деятельность компании заключается в разработке и производстве оборудования для травления и осаждения тонких пленок. Серия продуктов PLASSYS применяется для термического, электронно-лучевого и магнетронного напыления, выращивание алмазов CVD методом, осаждения с ионным ассистированием, а также для ионного травления. Технология PLASSYS для тонких пленок применяется в полупроводниках, сверхпроводниках, сенсорах, для нанесения трибологических (защитных) и оптических слоев.