Скорость травления: от 10 мкм/мин Мощность: 0-200 Вт Частота: 2.4 – 2.5 ГГц Область травления: 15мм х 15мм Максимальный размер образца: D 160 мм, H 80 мм
Установка плазмохимического травления (Россия) для исследований в области микроэлектроники. Предназначена для декапсуляции микросхем. Подойдет для НИОКР-лабораторий, опытных и мелкосерийных производств.
