пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Установка ионного травления Plassys, модели «MG» и «MU»

Производитель:
Plassys

Установки ионного травления двух типов: реактивное травление ионным лучом (RIBE), травление посредством ионного луча с химическим ассистированием (CAIBE)

Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Тех.характеристики
  • Документация
  • Оплата и доставка

MG и MU - установки ионного травления PLASSYS

Методы травления

  • Нереактивное ионное травление;
  • Реактивное травление ионным лучом (RIBE);
  • Травление посредством ионного луча с химическим ассистированием (CAIBE).

Особенности установок ионного травления «MG» и «MU»

  • Источники индуктивно связанной плазмы (ICP) – размер пучка 14 или 20 см;
  • Плотность тока до 4 мA/см2  ;
  • Диапазон энергий от 100 до 1000 эВ.

Автоматизированная вакуумная система

  • Сухой безмасляный или масляный роторный насосы;
  • Турбомолекулярный насос с керамическими подшипниками или на магнитном подвесе;
  • Криогенный насос.

Держатель образцов

  • Держатель обеспечивает наклон, планетарное вращение и водяное охлаждение подложки.

Шлюзы с автоматической или ручной загрузкой образца

Детекторы для определения момента окончания травления

  • Лазерный интерферометр;
  • Масс-спектрометр вторичных ионов.

Области применения установок ионного травления «MG» и «MU»

  • Магниторезистивная оперативная память (MRAM);
  • Обработка переходных металлов;
  • Микроиглы и микрозонды.

Технические характеристики установок ионного травления «MG» и «MU»


Наименование

Описание

Источники индуктивно связанной плазмы (ICP)

Размер пучка 14 или 20 см

Плотность тока

До 4 мA/см2

Диапазон энергий

От 100 до 1000 эВ

Источники индуктивно связанной плазмы (ICP): размер пучка 14 или 20 см
Плотность тока: до 4 мA/см2
Диапазон энергий: от 100 до 1000 эВ