MEB 550 S Plassys позволяет проводить осаждение слоёв без повреждений поверхности и обратную литографию. Система имеет 6-киловаттный источник электронов, шлюзовую камера и держатель для пластин диаметром 10 см и менее.
Система электронно-лучевого напыления MEB 550 S предназначена для исследований и разработок. Данное оборудование имеет отличную репутацию во всем мире.
- Детальное описание
- Документация
- Оплата и доставка
MEB 550 S Plassys - система электронно-лучевого напыления металлов со шлюзовой камерой
Модель MEB 550 S Plassys позволяет проводить деликатное осаждение слоёв без повреждений поверхности для литографии методом "взрыва" (lift-off). Система снабжена 6-ти киловаттным источником, шлюзовой камерой и держателем для пластин диаметром 4" (100 мм) (в стандартной комплектации, другие размеры по запросу). Система полностью автоматизирована и работает под управлением промышленного компьютера на Windows 7. Все управляющие блоки расположены на одной стойке 19" стандарта.
Автоматизация процесса откачки, предварительной обработки поверхности, напыления и окисления позволяет снизить влияние человеческого фактора при работе оператора. Системы Plassys очень надежны и сделаны из высококачественных материалов, что ведет к безотказной работе оборудования.
Конфигурация MEB 550 S Plassys
Система включает в себя:
- камеру с высоким вакуумом;
- электронно-лучевой источник с мульти-позиционным тиглем револьверного типа;
- загрузочную камеру с ионным источником для предварительной обработки и окисления.
Области применения MEB 550 S Plassys
- Литография методом "взрыва" (lift-off);
- Транзисторы с высокой подвижностью электронов;
- Омические контакты и контакты Шоттки на GaN;
- ИК-волноводы;
- Термобарьерные технологии;
- Магнитные материалы для СВЧ систем;
- Корпусирование MEMS;
- переходы Джозефсона.
Технические особенности системы MEB 550 S Plassys
Система напыления:
-
Цилиндрическая камера с дверцей;
-
Шлюзовая камера с возможностью предварительной обработки подложек (ионное травление, нагрев, окисление);
-
Диаметр образца до 8" (200 мм);
-
Возможные источники: резистивный, индуктивный, электронный-лучевой;
-
Держатели образца: с нагревом, с охлаждением (в том числе до температур жидкого азота), с возможностью вращения и наклона;
-
Ионный источник для режима ионного травления или напыления с ионным ассистированием;
-
Автоматическое и полуавтоматическое управление для производства.
Камера для образцов:
Камера закреплена на прочной стальной раме. Камера с внутренней электрополировкой, распашная дверь крепится на шарнирах. Дверца камеры оборудована поляризационным смотровым окном и регулируемой задвижкой для настройки электронного луча. Сменные защитные панели из нержавеющей камеры легко снимаются для проведения регламентных процедур очистки от переопыления.
Технические характеристики системы электронно-лучевого напыления MEB 550 S Plassys
Технические характеристики камеры вакуумного напыления
|
Наименование |
Описание |
|---|---|
|
Электронно-лучевой источник |
|
| Камера |
|
| Вакуумный насос |
|
Технические характеристики загрузочной камеры/обработка поверхности
|
Наименование |
Описание |
|---|---|
|
Подложкодержатель |
|
|
Скорость напыления |
|
| Ионный источник для обработки (опция) |
|
|
Процесс окисления |
|
|
Вакуумная система |
|
Габариты и вес
| Размеры камеры (мм) |
450*550*550 |
| Размеры занимаемой площади (мм) |
2256*1750*1700 |
| Вес (кг) |
800 кг |