пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Установка электронно-лучевого напыления со шлюзовой камерой MEB 550 S Plassys

Производитель:
Plassys

MEB 550 S Plassys позволяет проводить осаждение слоёв без повреждений поверхности и обратную литографию. Система имеет 6-киловаттный источник электронов, шлюзовую камера и держатель для пластин диаметром 10 см и менее.
Система электронно-лучевого напыления MEB 550 S предназначена для исследований и разработок. Данное оборудование имеет отличную репутацию во всем мире.

Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Документация
  • Оплата и доставка

MEB 550 S Plassys - система электронно-лучевого напыления металлов со шлюзовой камерой

Модель MEB 550 S Plassys позволяет проводить деликатное осаждение слоёв без повреждений поверхности для литографии методом "взрыва" (lift-off). Система снабжена 6-ти киловаттным источником, шлюзовой камерой и держателем для пластин диаметром 4" (100 мм) (в стандартной комплектации, другие размеры по запросу). Система полностью автоматизирована и работает под управлением промышленного компьютера на Windows 7. Все управляющие блоки расположены на одной стойке 19" стандарта. 

Автоматизация процесса откачки, предварительной обработки поверхности, напыления и окисления позволяет снизить влияние человеческого фактора при работе оператора. Системы Plassys очень надежны и сделаны из высококачественных материалов, что ведет к безотказной работе оборудования.

Конфигурация MEB 550 S Plassys

Система включает в себя:

  • камеру с высоким вакуумом;
  • электронно-лучевой источник с мульти-позиционным тиглем револьверного типа;
  • загрузочную камеру с ионным источником для предварительной обработки и окисления.

Области применения MEB 550 S Plassys

  • Литография методом "взрыва" (lift-off);
  • Транзисторы с высокой подвижностью электронов;
  • Омические контакты и контакты Шоттки на GaN;
  • ИК-волноводы;
  • Термобарьерные технологии;
  • Магнитные материалы для СВЧ систем;
  • Корпусирование MEMS;
  • переходы Джозефсона.

Технические особенности системы MEB 550 S Plassys

Система напыления:

  • Цилиндрическая камера с дверцей;

  • Шлюзовая камера с возможностью предварительной обработки подложек (ионное травление, нагрев, окисление);

  • Диаметр образца до 8" (200 мм);

  • Возможные источники: резистивный, индуктивный, электронный-лучевой;

  • Держатели образца: с нагревом, с охлаждением (в том числе до температур жидкого азота), с возможностью вращения и наклона;

  • Ионный источник для режима ионного травления или напыления с ионным ассистированием;

  • Автоматическое и полуавтоматическое управление для производства.

Камера для образцов:

Камера закреплена на прочной стальной раме. Камера с внутренней электрополировкой, распашная дверь крепится на шарнирах. Дверца камеры оборудована поляризационным смотровым окном и регулируемой задвижкой для настройки электронного луча. Сменные защитные панели из нержавеющей камеры легко снимаются для проведения регламентных процедур очистки от переопыления.

Технические характеристики системы электронно-лучевого напыления MEB 550 S Plassys

Технические характеристики камеры вакуумного напыления

 

Наименование

 

Описание

Электронно-лучевой источник

  • Электронная пушка револьверного типа; 1, 4, 6, 8 или 12 тиглей объемом от 2 до 500 см³;   
  • Для UHV применения возможна опционально электронная пушка с линейным мульти-тиглем 6 КВт 15 см³ x 5 тиглей;
  • Импульсный твердотелый источник питания для электронной пушки;
  • Стабильность ускоряющего напряжения  ± 0.25% при 10 кВ;
  • Стабильность эмиссионного пучка  ± 0.5 %;
  • Контроллер развертки луча - цифровой, программируемого типа;
  • Паттерны развертки луча - 32;
  • Выходной ток - 5A;
  • Диапазон частот - 500 Гц (max.);
  • Программируемая развертка для каждого тигля.

Камера
  • Распашная дверь: дает возможность для быстрого и удобного технического обслуживания;
  • Окно просмотра: 4.5" с поляризационными фильтрами.
Вакуумный насос
  • Ø8: Крионасос (стандартная комплектация);
  • Ø8" Турбомолекулярный насос на магнитном подвесе с LN2 ловушкой (опция);
  • Ø8" Пневматический затвор с сильфонным уплотнением;
  • 35 м3/ч Сухой спиральный насос (стандартная комплектация).

Технические характеристики загрузочной камеры/обработка поверхности

 Наименование

Описание

Подложкодержатель

  • Размер подложки Ø3" (опция), Ø4" (стандарт), Ø6" (опция), Ø8" (опция);
  • Нагрев подложки 700°C (опция);
  • Охлаждение подложки с помощью жидкого азота (опция);
  • Наклон -90° / +250°, точность 0.01°C;
  • Вращение 5 об/мин, воспроизводимость положения 0.1°;
  • Вакуумные уплотнения - витоновые кольцевые уплотнители.
Скорость напыления
      - Кварцевый резонатор для контроля скорости и толщины напыления
Ионный источник для обработки (опция)   
  • Стандартный Ø4 см или Ø8 см сеточный ионный источник типа Кауфмана; 
  • 2 контроллера массового расхода для O2 и Ar.
Процесс окисления
  • Статическое окисление: линия O2 с игольчатым клапаном;
  • Давление окисления до 750 Torr;
  • Динамическое окисление: линия O2 с контролем массового расхода с дроссельной откачкой.
Вакуумная система
Ø8″ Крионасос с компрессором / Гибридный турбонасос 400 л/с,  сухой насос 10 м3/ч  (стандартная комплектация)

Габариты и вес

 Размеры камеры (мм)      450*550*550  
 Размеры занимаемой площади (мм)   2256*1750*1700
 Вес (кг)                                                                     800 кг