В установке PICOFLOAT™ порошок, на который требуется нанести покрытие, находится в постоянном движении, что гарантирует образование однородных АСО плёнок на каждой частице с диаметром несколько десятков нанометров.
Установкви R-200 Advanced ALD PICOSUN разработаны для проведения НИОКР в различных областях исследований (компоненты на интегральных микросхемах, микроэлектромеханические устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).
Установки ALD R-200 Standard PICOSUN предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).
Размеры и тип пластин: 300 мм Температура обработки: до 400 °C Покрытие: одно/двухстороннее Прекурсоры: жидкостные, твердые вещества, газ, озон
Установка ALD Sprinter PICOSUN предназначена для крупносерийного ALD-производства 300 мм полупроводниковых пластин (например, компонентов памяти, транзисторов, конденсаторов), дисплеев и компонентов Интернета вещей.
Размер камеры: d 170 мм и h 140 мм Габариты установки: 450 х 500 х 370 мм (В х Ш х Г) Предельный вакуум: менее 50 мTорр Вес в упаковке: 46 кг
Настольная установка подготовки образцов модели DCR представляет собой компактную систему покрытия углеродным волокном, подходящую для подготовки образцов для использования в сканирующем электронном микроскопе (SEM), трансмиссионном электронном микроскопе (TEM) и в рентгеновском анализе (EDX).
Размер камеры: d 170 мм, h 140 мм Габариты установки: 450 х 500 х 370 мм (В х Ш х Г) Предельный вакуум: менее 7 x 10 -7 Торр Вес в упаковке: 46 кг
Настольная установка подготовки образцов модели DCT представляет собой компактную систему нанесения углеродного покрытия с турбонасосом, которая идеально подходит для FE-SEM, EDS/WDS, TEM, EBSD и нанесения тонких пленок.
Рабочее давление: до 300 мбар или более Микроволновый генератор: 6 кВт (импульсный режим источника) Газовые линии : 4, дополнительно по запросу Держатель подложки : 2" Бихроматический ИК-пирометр: 475 – 1475 °C Базовое давление в реакторе: 5×10-7 Мбар
Установка MV-PACVD SSDR 150 Plassys представляет собой микроволновый плазменный реактор, предназначенный для синтеза алмазной пленки и драгоценных камней. Используя плазму высокой плотности, реактор позволяет получать алмазные пленки высокой чистоты с высокой скоростью роста.
Источники индуктивно связанной плазмы (ICP): размер пучка 14 или 20 см Плотность тока: до 4 мA/см2 Диапазон энергий: от 100 до 1000 эВ
Установки ионного травления двух типов: реактивное травление ионным лучом (RIBE), травление посредством ионного луча с химическим ассистированием (CAIBE)
FA Cube™ разработан для лабораторий анализа отказов полупроводников и судебно-медицинской экспертизы. Компактная установка лазерной декапсуляции полупроводников обеспечивает чистую и точную лазерную декапсуляцию с надёжными результатами.
Установка позволяет избирательно удалять слои компаунда за несколько секунд с точностью до микрона без использования опасных химических реагентов. Установка может полностью декапсулировать большинство полупроводников для выявления следов кристалла.
Длина волны лазерного излучения : 1064 нм Электропитание: 230 VAC/ 50/60 Hz/ 20 А/ Одна фаза Пневматическая система: Сухой чистый сжатый воздух 80 psi (5,5 бар)/ 5 cfm (140 л/мин) Условия хранения: от -20 до +50 °С <80% Условия работы: от -13 до +43 °С <80%
Система
предназначена для удаления компаунда чипа, посредством
распыления материала лазерным излучением без повреждения самой кремниевой
микросхемы.
