Установка MV-PACVD SSDR 150 Plassys представляет собой микроволновый плазменный реактор, предназначенный для синтеза алмазной пленки и драгоценных камней. Используя плазму высокой плотности, реактор позволяет получать алмазные пленки высокой чистоты с высокой скоростью роста.
Установка MW-PACVD Plassys SSDR 150 для синтеза алмазной пленки
Установка MW-PACVD (химическое газофазное осаждение) SSDR 150 представляет собой микроволновый плазменный реактор CVD (MW-PACVD), предназначенный для синтеза алмазной пленки и драгоценных камней. Этот реактор является результатом сотрудничества между компанией PLASSYS и лабораторией инженерии материалов и высоких давлений Национального научно-исследовательского центра Франции (LIMHP CNRS, Villetaneuse).
Используя плазму высокой плотности, реактор позволяет получать алмазные пленки высокой чистоты с высокой скоростью роста. Благодаря оптимизированной микроволновой и плазменной конструкции реактор SSDR150 представляет собой прочное и надежное в работе оборудование, идеально адаптированное к потребностям научно-исследовательских лабораторий. Его легко чистить и менять конфигурацию камер, что делает SSDR150 наиболее пригодным для легирования алмазных пленок.
Особенности и преимущества установки MW-PACVD Plassys SSDR 150
- Плазма высокой плотности;
- Высокое рабочее давление, до 300 мбар или более;
- Микроволновый генератор 6 кВт (опционально-импульсный источник);
- Четыре газовые линии (дополнительные линии по запросу);
- Держатель подложки 2" (50 мм);
- Автоматическое выравнивание высоты держателя подложки во время выращивания (опция);
- Легкая загрузка/выгрузка подложки;
- Бихроматический ИК-пирометр (475 – 1475 °C);
- Турбомолекулярный насос + сухой форвакуумный насос;
- Базовое давление в реакторе: 5×10-7 мбар;
- Полностью автоматизированный процесс;
- Низкие эксплуатационные расходы.
Выращивание алмаза MW-PACVD
- CVD алмазы для применения в электронике (CVD – химическое газофазное осаждение);
- Высокие скорости роста;
- Легирование азотом или бором;
- Выращивание монокристаллов (для электронной и ювелирной промышленности) и поликристаллов;
- Источник СВЧ 2.45 ГГц– 6 кВт.
Производительность реактора SSDR150
Поликристаллические алмазы
- Отсутствие азотных включений в фотолюминесцентном анализе при температуре жидкого азота.
Монокристаллический алмаз
- Отсутствие азотных дефектов в фотолюминесцентном анализе при температуре жидкого азота;
- Низкая концентрация примесного азота [NS0]≤1 ppb (измерено методом электронного парамагнитного резонанса EPR);
- Параметр FWHM (анг. full width at half maximum – полная ширина/половина от максимума) линии комбинационного («Романовского») рассеивания алмаза 1332 см-1 : 1,6 см-1;
- Отсутствие поглощения инфракрасного излучения от 4000 до 10000 см-1;
- Скорость роста до 10 мкм/час, в зависимости от условий роста.
Статьи о методике выращивания алмазов с помощью системы MW-PACVD
Популярные статьи от престижных учреждений, которые применяют системы MW-PACVD для выращивания алмазов:
-
Микроволновая инженерия реакторов плазмо-химического газофазного осажденния (plasma-assisted CVD) для осаждения алмазов. Ссылка
- Выращивание алмазных монокристаллов больших размеров с помощью плазмо-химического газофазного осаждения: последние достижения и текущие проблемы. Ссылка https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1631070512001429.
- Двумерные периодические структуры «обратный» опал в монокристаллическом алмазе с встроенными оптическими дефектами кремния. Ссылка https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0925963516302795.
- Теплопроводность (TC) отдельно стоящих CVD-алмазных пленок, при выращивании как со стороны основания, так и со стороны роста алмаза. Ссылка https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0925963516302746
- Тонкие большие вертикальные алмазные диоды с барьером Шоттки с низким сопротивлением, выполненные методом ионно-лучевого напыления. Ссылка https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S0925963516306422.
| Рабочее давление: | до 300 мбар или более |
| Микроволновый генератор: | 6 кВт (импульсный режим источника) |
| Газовые линии : | 4, дополнительно по запросу |
| Держатель подложки : | 2" |
| Бихроматический ИК-пирометр: | 475 – 1475 °C |
| Базовое давление в реакторе: | 5×10-7 Мбар |
Заказ товаров
Сделать заказ товара можно несколькими способами:
- Отправьте запрос на сайте через кнопку «ОТПРАВИТЬ ЗАПРОС НА КП» или «ЗАДАТЬ ВОПРОС»;
- Отправьте запрос на e-mail: info@sernia.ru с указанием конкретного товара или технических характеристик возможного прибора;
- Позвоните по телефону +7 (495) 204-13-17 или 8 (800) 301-13-17 (бесплатный для регионов). Секретарь соединит Вас с менеджером, который поможет сделать заказ.
Оплата товара
Оплата товара производится только по безналичному расчету. Цены в счете указываются с НДС. Условия оплаты: 100% предоплата или 50/50% (предварительно обговариваются с клиентом, зависят от условий поставки товаров).
Доставка товара
Сроки поставки товара обговариваются на этапе заказа товара. Доставка мелкогабаритного товара в пределах Москвы осуществляется собственной курьерской службой. Сроки доставки товаров из наличия - 2-3 дня после оплаты товара.
Доставка товара в регионы осуществляется службой MAJOR EXRESS. Отследить доставку товара можно по номеру накладной на сайте компании.