Соединяя науку и технологии office@sernia.ru
пн-пт 10:00 – 19:00
сб-вс выходные
+7 (495) 204-13-17
8 (800) 301-13-17

Установка ALD R-200 Advanced Picosun

Цена: По запросу
Производитель: Picosun Flag
Установкви  R-200 Advanced ALD PICOSUN разработаны для проведения НИОКР в различных областях исследований (компоненты на интегральных микросхемах, микроэлектромеханические устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).
Скачать документацию Задать вопрос
  • Описание
  • Документация

Описание  R-200 Advanced ALD Picosun

Установка R-200 Advanced  Picosun - это установка атомно-слоевого осаждения, АСО (аtomic layer deposition, ALD). Технология ALD на сегодняшний является наиболее перспективной, так как позволяет наносить сверхтонкие покрытия практически на любые типы поверхностей.

Атомно-слоевое осаждение представляет собой химический метод нанесения сверхтонких плёнок из газовой фазы. Рост плёнок осуществляется за счёт последовательного нанесения атомных слоев, обеспечивая точный контроль толщины плёнки и ее химического состава.

Применение

Установкви  R-200 Advanced ALD PICOSUN разработаны для проведения НИОКР в различных областях исследований (компоненты на интегральных микросхемах, микроэлектромеханические устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

Особенности

Оборудование R-серии Picosun имеет ручную или полуавтоматическую обработку. Позволяет производить напыление пленок АСО на поверхности со сложной структурой, а также на образцы с высоким аспектным соотношением размеров и на наночастицы. 
Предназначена для одиночной обработки подложек или для работы с мини-партиями. Используются подложки до 200 мм.

Технические характеристики R-200 Advanced Picosun:

Количество вводов прекурсоров/  реагенты 

- до 12 источников с 6 отдельными вводами (7 при использовании плазмы);
- жидкостные, твердые, газообразные, озон, плазма.

Тип и размер подложек

- 50 – 200 мм одиночные пластины;
- макс. 150 мм пластины в вертикально-расположенной кассете по 5 -15 штук (в зависимости от процесса);
- спец. опция: макс. 200 мм пластины в вертикально-расположенной кассете по 5 -15 штук (в зависимости от процесса);
- кремниевые пластины для  размером 156 мм x 156 мм;
- трехмерные объекты;
- порошки и частицы;
- рулонная подача образцов, макс. ширина 70 мм;
- образцы с глухими и сквозными порами, образцы с высоким аспектным отношением.

Загрузка в реакционную камеру

- пневматический загрузчик (ручная загрузка);
- загрузочный шлюз с магнитным манипулятором;
- полуавтоматическая загрузка с помощью роботизированного загрузчика;
- покассетная загрузка в кластерных инструментах.


 Рабочая температура

- 50 - 500 °C, плазма 450 °C (650 °C с подогреваемым держателем — по заказу).

  Технологические процессы
 Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, металлы (Pt или Ir)
  Доп.оборудование

- кластерное оборудование,

- усилитель диффузии Picoflow,

- камера с рулонной подачей,

- анализатор остаточных газов (RGA) на основе квадрупольного масс-спектрометра, совместимость со сверхвысоким вакуумом,

- генератор N2,

- газовый скруббер,

- изготовление конструкции по ТЗ заказчика,

- интеграция с перчаточным боксом для загрузки из инертной атмосферы.



Похожие товары
Обратите внимание на похожие модели и аналоги, как альтернативу вашему выбору.