пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Установка ALD R-200 Standard Picosun с ручной загрузкой

Производитель:
Picosun Flag

Установки ALD R-200 Standard  PICOSUN  предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Документация
  • Оплата и доставка

Описание  R-200 ALD Picosun

Установка R-200 Picosun - это установка атомно-слоевого осаждения, АСО (аtomic layer deposition, ALD). Технология ALD на сегодняшний является наиболее перспективной, так как позволяет наносить сверхтонкие покрытия практически на любые типы поверхностей. Оборудование R-200 Standard — базовый инструмент для одиночной обработки или минипартии из 5 подложек для НИОКР; подложки диаметром до 200 мм.

Установки ALD R-200 Standard  PICOSUN  предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

Особенности и преимущества

  • Оборудование R-серии Picosun имеет ручную или полуавтоматическую обработку. Позволяет производить напыление плёнок АСО на поверхности со сложной структурой, а также на образцы с высоким аспектным соотношением размеров и на наночастицы.  

  • Гибкая конструкция ALD-установок Picosun обеспечивает получение тонких пленок самого высокого качества, а исключительная универсальность систем позволяет использовать их для удовлетворения потребностей и решения задач, которые возникнут в будущем.
  • Запатентованная конструкция камеры c горячими стенками и полностью раздельными вводами и контрольно-измерительными приборами обеспечивает работу с различного рода материалами: пластины, 3D-объекты, наночастицы, порошки.

  • Пленки, нанесенные с помощью оборудования Picosun, характеризуются отсутствием примесных частиц и исключительной однородностью даже на самых сложных пористых подложках, подложках с чрезвычайно большим соотношением сторон, образцах с наночастицами.

  • Системы Picosun ™ серии R оснащены высоко функциональными и легко заменяемыми источниками прекурсоров для жидких, газообразных и твердых химикатов;

  • Интеграция с защитными камерами, порошковыми камерами и разнообразными местными аналитическими системами обеспечивает гибкое и эффективное проведение исследовательских работ и надежные результаты независимо от области текущих или будущих научных интересов.

Технические характеристики P-200 Standard Picosun:

Количество вводов прекурсоров/ реагенты 

- до 6 источников с 4 отдельными вводами;
- Жидкостные, твердые, газообразные, озон

Тип и размер подложек

- 50 – 200 мм одиночные подложки;
- минипартия из 5 подложек по 150 мм; 
- 156 мм x 156 мм кремниевые подложки для фотовольтаики;
- трёхмерные объекты (метал, керамика, полимеры); 
-порошки и частицы; 
- сквозные пористые образцы;
-образцы, имеющие микроканавки с высоким аспектным соотношением размеров. 


Загрузка в реакционную камеру

- Пневматический загрузчик (ручная загрузка)
- Загрузочный шлюз с магнитным манипулятором


Рабочая температура

-50 - 500 °C

Технологические процессы

Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, TiN, AlN, металлы (Pt или Ir).

 Доп.оборудование

Усилитель диффузии Picoflow™, RGA, генератор N2, газоочиститель, специальные конструкции, возможность использования защитной камеры для инертной загрузки.