Name: Установка ALD Picosun Picofloat для покрытия частиц
Brand: Picosun
Availability: InStock

Сравнить

В избранное

Установка ALD Picosun Picofloat для покрытия частиц

Производитель: Picosun

Цена:
По запросу

В установке PICOFLOAT™ порошок, на который требуется нанести покрытие, находится в постоянном движении, что гарантирует образование однородных АСО плёнок на каждой частице с диаметром несколько десятков нанометров.

Сравнить

В избранное

Установка ALD R-200 Advanced Picosun с полуавтоматической загрузкой

Производитель: Picosun

Цена:
По запросу

Установкви R-200 Advanced ALD PICOSUN разработаны для проведения НИОКР в различных областях исследований (компоненты на интегральных микросхемах, микроэлектромеханические устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

Сравнить

В избранное

Установка ALD R-200 Standard Picosun с ручной загрузкой

Производитель: Picosun

Цена:
По запросу

Установки ALD R-200 Standard PICOSUN предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

Сравнить

В избранное

Установка ALD Sprinter Picosun - для крупносерийного производства в промышленном масштабе

Производитель: Picosun

Цена:
По запросу

Размеры и тип пластин: 300 мм
Температура обработки: до 400 °C
Покрытие: одно/двухстороннее
Прекурсоры: жидкостные, твердые вещества, газ, озон

Установка ALD Sprinter PICOSUN предназначена для крупносерийного ALD-производства 300 мм полупроводниковых пластин (например, компонентов памяти, транзисторов, конденсаторов), дисплеев и компонентов Интернета вещей.

Сравнить

В избранное

Установка вакуумного напыления углеродного покрытия NSC DCR | настольная

Производитель: NSC - Nano-Structured Coatings

Цена:
По запросу

Размер камеры: d 170 мм и h 140 мм
Габариты установки: 450 х 500 х 370 мм (В х Ш х Г)
Предельный вакуум: менее 50 мTорр
Вес в упаковке: 46 кг

Настольная установка подготовки образцов модели DCR представляет собой компактную систему покрытия углеродным волокном, подходящую для подготовки образцов для использования в сканирующем электронном микроскопе (SEM), трансмиссионном электронном микроскопе (TEM) и в рентгеновском анализе (EDX).

Товар имеется в наличии.

Сравнить

В избранное

Установка высоковакуумного напыления углеродного покрытия NSC DCT | настольная

Производитель: NSC - Nano-Structured Coatings

Цена:
По запросу

Размер камеры: d 170 мм, h 140 мм
Габариты установки: 450 х 500 х 370 мм (В х Ш х Г)
Предельный вакуум: менее 7 x 10 -7 Торр
Вес в упаковке: 46 кг

Настольная установка подготовки образцов модели DCT представляет собой компактную систему нанесения углеродного покрытия с турбонасосом, которая идеально подходит для FE-SEM, EDS/WDS, TEM, EBSD и нанесения тонких пленок.

Сравнить

В избранное

Установка для выращивания алмазов MW-PACVD (химическое газофазное осаждение) Plassys

Производитель: Plassys

Цена:
По запросу

Рабочее давление: до 300 мбар или более
Микроволновый генератор: 6 кВт (импульсный режим источника)
Газовые линии : 4, дополнительно по запросу
Держатель подложки : 2"
Бихроматический ИК-пирометр: 475 – 1475 °C
Базовое давление в реакторе: 5×10-7 Мбар

Установка MV-PACVD SSDR 150 Plassys представляет собой микроволновый плазменный реактор, предназначенный для синтеза алмазной пленки и драгоценных камней. Используя плазму высокой плотности, реактор позволяет получать алмазные пленки высокой чистоты с высокой скоростью роста.

Сравнить

В избранное

Установка ионного травления Plassys, модели «MG» и «MU»

Производитель: Plassys

Цена:
По запросу

Источники индуктивно связанной плазмы (ICP): размер пучка 14 или 20 см
Плотность тока: до 4 мA/см2
Диапазон энергий: от 100 до 1000 эВ

Установки ионного травления двух типов: реактивное травление ионным лучом (RIBE), травление посредством ионного луча с химическим ассистированием (CAIBE)

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции FA Cube™

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

FA Cube™ разработан для лабораторий анализа отказов полупроводников и судебно-медицинской экспертизы. Компактная установка лазерной декапсуляции полупроводников обеспечивает чистую и точную лазерную декапсуляцию с надёжными результатами.
Установка позволяет избирательно удалять слои компаунда за несколько секунд с точностью до микрона без использования опасных химических реагентов. Установка может полностью декапсулировать большинство полупроводников для выявления следов кристалла.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции FALIT

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Длина волны лазерного излучения : 1064 нм
Электропитание: 230 VAC/ 50/60 Hz/ 20 А/ Одна фаза
Пневматическая система: Сухой чистый сжатый воздух 80 psi (5,5 бар)/ 5 cfm (140 л/мин)
Условия хранения: от -20 до +50 °С <80%
Условия работы: от -13 до +43 °С <80%

Система предназначена для удаления компаунда чипа, посредством распыления материала лазерным излучением без повреждения самой кремниевой микросхемы.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA BENCHTOP L

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: настольный
Площадь удаления (см): 114*35*25
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Достаточно габаритная (размер основания 182х76 см) настольная модель для использования в рабочих пространствах открытого типа.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA BENCHTOP M

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: настольный
Площадь удаления (см): 100*30*25
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Достаточно габаритная (размер основания 153х77 см) настольная модель для использования в рабочих пространствах открытого типа.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA BENCHTOP S

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: настольный
Площадь удаления (см): 75*30*25
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Настольная модель среднего размера.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA BENCHTOP XL

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: настольный
Площадь удаления (см): 125*40*25
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Достаточно габаритная (размер основания 183х92 см) настольная модель для использования в рабочих пространствах открытого типа.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA BENCHTOP XS

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: настольный
Площадь удаления (см): 30*25*15
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Настольная модель среднего размера.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA DESKTOP M

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: настольный
Площадь удаления (см): 35*30*12
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Компактная настольная модель, позволяющая сэкономить место в мастерской.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA DESKTOP S

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: настольный
Площадь удаления (см): 30*25*10
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Компактная настольная модель, позволяющая сэкономить место в мастерской.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA DIAL 28

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 25*120*15
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 76х86 см) для использования в рабочих пространствах открытого типа.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA DIAL 36

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 38*30*30
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 105х110 см) для использования в рабочих пространствах открытого типа.

Сравнить

В избранное

Установка лазерной декапсуляции RETINA DIAL 48

Производитель: Control Laser

Цена:
По запросу

Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 45*38*30
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 132х137 см) для использования в рабочих пространствах открытого типа.

Технологическое оборудование для научных исследований и промышленности