По запросу
Загрузка пластин: 300 мм
Производительность при толщине 25 нм: 4 ламели / час
Высокопроизводительная система для изготовления ламелей полупроводниковых пластин.
По запросу
Универсальный двухлучевой сканирующий электронный микроскоп с плазменным фокусированным ионным пучком для 3D-характеризации больших объемов и подготовки образцов S / TEM без содержания Ga.
По запросу
Универсальный двухлучевой сканирующий электронный микроскоп с плазменным фокусированным ионным пучком для анализа отказов
По запросу
Наиболее продвинутые показатели фокусированного ионного и электронного пучка, непревзойденный уровень автоматизации и удобство в применении.
По запросу
Разрешение эл.пучка: 0.6 нм от 15 кВ до 2 кВ
Разрешение эл.пучка: 0.7 нм при 1 кВ
Разрешение эл.пучка: 1.0 нм при 500 В (ICD)
Разрешение ионного пучка: 4.0 нм при 30 кВ (опт.стат.метод)
Разрешение ионного пучка: 2.5 нм при 30 кВ (селект.гранич.метод)
Двухлучевые микроскопы линейки Helios NanoLab представляют собой сочетание самых современных сканирующих электронных микроскопов и технологий фокусированного ионного пучка Sidewinder FIB. Эксклюзивная технология DualBeam™ дает новые возможности сверхвысокого разрешения при 2D- и 3D-характеризации, создании нанопрототипов и подготовке образцов.
В комплекте с системой газовой инжекции, дополнительными детекторами и манипуляторами обеспечивает непревзойденное разрешение и высокопроизводительное травление при помощи пучка ионов для быстрой подготовки образцов с целью последующего анализа в просвечивающем электронном микроскопе.
Дополнительный детектор STEM 30 кВ поддерживает высокое разрешение и высокий контраст изображения, что делает систему уникальной и не имеющей себе равных среди приборов для визуализации поверхности, анализа материалов, модификации поверхности и подготовки образцов для TEM.
По запросу
Диапазон энергий в точке падения пучка на образец: 20* эВ – 30 кэВ
Диапазон ускоряющих напряжений: 200 В – 30 кВ
Ускоряющее напряжение (ионная колонна): 500 В – 30 кВ
Диапазон токов пучка (ионная колонна): 1.5 пА – 65 нА
В микроскопе Scios 2 DualBeam применяется аналитическая двулучевая технология сверхвысокого разрешения DualBeam™, обеспечивающая высочайшие эксплуатационные характеристики при двухмерном и трёхмерном анализе широкого диапазона образцов, включая магнитные материалы.
По запросу
Разрешение эл.пучка: 1,0 нм при 15 кэВ
Разрешение эл.пучка: 1,6 нм при 1 кэВ
В микроскопе Scios™ FEI применяется аналитическая двулучевая технология сверхвысокого разрешения DualBeam™, обеспечивающая выдающиеся эксплуатационные характеристики при двухмерном и трёхмерном анализе широкого диапазона образцов, включая магнитные материалы.
По запросу
Разрешение ионного пучка: 5 нм при 30 кВ СПЭМ
Разрешение в режиме электронов 0.8 нм при 30 кВ СПЭМ. Разрешение в режиме ионов 5 нм при 30 кВ СПЭМ.
Двухлучевой электронный микроскоп предназначен для выполнения двухмерного и трехмерного анализа в сверхвысоком разрешении. Оптический прибор позволяет сканировать любые поверхности и получить увеличенное в несколько раз изображение объекта.
Назначение
Двухлучевые микроскопы сочетают в себе плюсы ионных и растровых электронных моделей. С их помощью можно узнать точные размеры элементов, толщину каждого слоя исследуемого объекта. Приборы этого типа не только эффективно увеличивают образцы и помогают обнаружить дефекты поверхности, что особенно полезно при производстве микросхем. Многие модели укомплектованы встроенным спектрофотометром для получения более точных результатов при спектральном исследовании образцов.
Преимущества оформления заказа в Сернии
- Бесплатная помощь в подборе техники.
- Предоставим полные инструкции по работе с приборами.
- Гарантийное и постгарантийное обслуживание оборудования.
- Доставка во все города России.
У нас вы сможете купить оборудование для лабораторий и промышленных предприятий по доступным ценам. Мы напрямую сотрудничаем с Tektronix, Rohde&Schwarz, Trion Technology и другими производителями микроскопов, оптических систем, контрольно-измерительных приборов.