
15 213 c
Технологическая норма: ниже 180 нм
Размер образца: до 20 нм
Специализация: Hitachi Nano prober system
Радиус кривизны зонда: менее 150 нм
Диаметр стержня зонда : 0,6 мм
Длина конуса: 2 мм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR150 для нанозондирования в СЭМ Hitachi.
Технологический процесс ниже 180 нм.
Радиус кривизны менее 150 нм.
Размер образца - до 20 нм.

15 213 c
Технологическая норма: ниже 180 нм
Размер образца: до 20 нм
Специализация: Hitachi Nano prober system
Радиус кривизны зонда: менее 150 нм
Диаметр стержня зонда : 0,6 мм
Длина конуса: 2 мм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR150 для нанозондирования в СЭМ Hitachi.
Технологический процесс ниже 180 нм.
Радиус кривизны менее 150 нм.
Размер образца - до 20 нм.
7 322 c
Технологическая норма: ниже 150 нм
Радиус кривизны зонда: менее 150 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR150 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс ниже 150 нм.
Радиус кривизны менее 150 нм.
Размер образца - до 20 нм.
7 322 c
Технологическая норма: ниже 180 нм
Радиус кривизны зонда: менее 150 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR150 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс ниже 180 нм.
Радиус кривизны менее 150 нм.
Размер образца - до 20 нм.

25 340 c
Технологическая норма: 14-20 нм
Размер образца: до 20 нм
Специализация: Hitachi Nano prober system
Радиус кривизны зонда: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,6 мм
Длина конуса: 2 мм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СЭМ Hitachi.
Технологический процесс от 14 до 20 нм.
Радиус кривизны менее 20 нм.
Размер образца - до 20 нм.

25 340 c
Технологическая норма: 14 -20 нм
Размер образца: до 20 нм
Специализация: Hitachi Nano prober system
Радиус кривизны зонда: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,6 мм
Длина конуса: 2 мм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СЭМ Hitachi.
Технологический процесс от 14 до 20 нм.
Радиус кривизны менее 20 нм.
Размер образца - до 20 нм.

18 827 c
Технологическая норма: от 10 до 20 нм
Радиус кривизны зонда: менее 20 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс от 10 до 20 нм.
Радиус кривизны менее 20 нм.
Размер образца - до 20 нм.

16 735 c
Технологическая норма: от 14 до 20 нм
Радиус кривизны зонда: менее 20 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс от 14 до 20 нм.
Радиус кривизны менее 20 нм.
Размер образца - до 20 нм.

16 735 c
Технологическая норма: от 14 до 20 нм
Радиус кривизны зонда: менее 20 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс от 14 до 20 нм.
Радиус кривизны менее 20 нм.
Размер образца - до 20 нм.

16 164 c
Радиус кривизны: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда: 0,25 мм
Длина усадки наконечника (TSL): 250 мкм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СТМ (сканирующих туннельных микроскопах).
Радиус кривизны менее 20 нм.
Диаметр стержня зонда (WD) 0,25 мм.
Длина усадки наконечника (TSL) 250 мкм.

16 164 c
Радиус кривизны: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда: 0,25 мм
Длина усадки наконечника (TSL): 300 мкм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СТМ (сканирующих туннельных микроскопах).
Радиус кривизны менее 20 нм.
Диаметр стержня зонда (WD) 0,25 мм.
Длина усадки наконечника (TSL) 300 мкм.

16 164 c
Радиус кривизны: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда: 0,25 мм
Длина усадки наконечника (TSL): 350 мкм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СТМ (сканирующих туннельных микроскопах).
Радиус кривизны менее 20 нм.
Диаметр стержня зонда (WD) 0,25 мм.
Длина усадки наконечника (TSL) 350 мкм.

16 164 c
Радиус кривизны: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда: 0,3 мм
Длина усадки наконечника (TSL): 250 мкм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СТМ (сканирующих туннельных микроскопах).
Радиус кривизны менее 20 нм.
Диаметр стержня (WD) 0.3 мм.
Длина усадки наконечника (TSL) 250 мкм.

16 164 c
Радиус кривизны: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда: 0,3 мм
Длина усадки наконечника (TSL): 300 мкм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СТМ (сканирующих туннельных микроскопах).
Радиус кривизны менее 20 нм.
Диаметр стержня зонда (WD) 0,3 мм.
Длина усадки наконечника (TSL) 300 мкм.

16 164 c
Радиус кривизны: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда: 0,3 мм
Длина усадки наконечника (TSL): 350 мкм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СТМ (сканирующих туннельных микроскопах).
Радиус кривизны менее 20 нм.
Диаметр стержня зонда (WD) 0,3 мм.
Длина усадки наконечника (TSL) 350 мкм.

26 576 c
Технологическая норма: ниже 14 нм
Размер образца: до 20 нм
Специализация: Hitachi Nano prober system
Радиус кривизны зонда: менее 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,6 мм
Длина конуса: 2 мм
Длина зонда (общая): 12 мм
Нанозонды типа CR20+ (Ultra CR20 Plus) для нанозондирования в СЭМ Hitachi.
Технологический процесс ниже 14 нм.
Радиус кривизны менее 20 нм.
Размер образца - до 20 нм.
7 322 c
Технологическая норма: ниже 200 нм
Радиус кривизны зонда: менее 200 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR200 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс ниже 200 нм.
Радиус кривизны менее 200 нм.
Размер образца - до 20 нм.
7 322 c
Технологическая норма: ниже 200 нм
Радиус кривизны зонда: менее 200 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR200 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс ниже 200 нм.
Радиус кривизны менее 200 нм.
Размер образца - до 20 нм.
7 322 c
Технологическая норма: ниже 250 нм
Радиус кривизны зонда: менее 250 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR250 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс ниже 250 нм.
Радиус кривизны менее 250 нм.
Размер образца - до 20 нм.
7 322 c
Технологическая норма: ниже 250 нм
Радиус кривизны зонда: менее 250 нм
Размер образца: до 20 нм
Диаметр стержня зонда : 0,25 мм
Длина конуса: 2,5 мм
Длина зонда (общая): 12,5 мм
Нанозонды типа CR250 для нанозондирования в СЭМ.
Технологический процесс ниже 250 нм.
Радиус кривизны менее 250 нм.
Размер образца - до 20 нм.