Дополнительное оборудование для микроскопии

Нанозонды типа CR20 для нанозондирования в СЭМ.  

Технологический процесс от 14 до 20 нм. 

Радиус кривизны менее 20 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR20+ (Ultra CR20 Plus) для нанозондирования в СЭМ Hitachi.

Технологический процесс ниже 14 нм. 

Радиус кривизны менее 20 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR200 для нанозондирования в СЭМ.  

Технологический процесс ниже 200 нм. 

Радиус кривизны менее 200 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR250 для нанозондирования в СЭМ.  

Технологический процесс ниже 250 нм. 

Радиус кривизны менее 250 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR35 для нанозондирования в СЭМ Hitachi.

Технологический процесс от 20 до 45 нм. 

Радиус кривизны менее 35 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR35 для нанозондирования в СЭМ.  

Технологический процесс от 20 до 45 нм. 

Радиус кривизны менее 35 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR5 для нанозондирования в СЭМ Hitachi.

Технологический процесс ниже 5 нм. 

Радиус кривизны менее 5 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR5+ (CR5 Plus) для нанозондирования в СЭМ Hitachi.

Технологический процесс ниже 5 нм. 

Радиус кривизны менее 5 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR50 для нанозондирования в СЭМ Hitachi.

Технологический процесс от 55 до 90 нм. 

Радиус кривизны менее 50 нм. 

Размер образца - до 20 нм.  

Нанозонды типа CR50 для нанозондирования в СЭМ.  

Технологический процесс от 55 до 90 нм. 

Радиус кривизны менее 50 нм. 

Размер образца - до 20 нм.