
По запросу
Размер ионного пучка: до 1 мкм
Переменное напряжение : 50 эВ - 2 кВ
Прецизионная система подготовки образцов для ПЭМ методом ионного утонения с диаметром пучка до 1 мкм.

По запросу
Кол-во ионных источников: 2
Диапазон рабочих энергий : от 100 эВ до 10,0 кэВ
Диапазон регулируемых углов полировки: от – 15° до + 10°
Настольная прецизионная система подготовки высококачественных образцов для ПЭМ из широкого спектра материалов.

По запросу
Размеры образца (кросс-секционирование): от 3*3*0,7 мм до 10*10*4,0 мм
Размеры образца (планарная обработка): диам. 32 мм*В 25 мм
Настольная прецизионная система подготовки высококачественных образцов для СЭМ для широкого спектра применений.

По запросу
Размеры образца (кросс-секционирование): от 3*3*0,7 мм до 10*10*4,0 мм
Размеры образца (планарная обработка): диам. 50 мм*В 25 мм
Настольная прецизионная система подготовки высококачественных образцов для СЭМ.
Область обработки 50 мм.
Три ионных источника.

По запросу
Размер пластины: до 300 мм
Размер ионного пучка: до 2 мм
Автоматизированная система ионно-лучевого послойного травления на полупроводниковых пластинах (до 300 мм) для подготовки образцов к CD-SEM (Critical dimensions SEM, контроль критических размеров в сканирующем электронном микросокопе).

По запросу
Размер ионного пучка: менее 1 мкм
Диапазон напряжений: от 50 эВ до 2 кВ
Прецизионная система подготовки образцов для ПЭМ методом ионного утонения с диаметром пучка менее 1 мкм, низкоэнергетическим источником ионов инертного газа и колонной СЭМ.

По запросу
Доп.оборудоание: модель 120
Доп.оборудоание: модель 140
Автоматическая двухсторонняя электролитическая полировка или химическое травление образцов для ПЭМ.

По запросу
Блок для полного автоматического управления питанием системы автоматической двухсторонней электролитической полировки образцов для ПЭМ.

По запросу
Размеры (мм): 25 x 64 x 28
Устройство перфорирования позволяет создавать высококачественные образцы дисковой формы из тонкой металлической фольги путем механического воздействия.

По запросу
Цифровой блок для управления питанием системы автоматической двухсторонней электролитической полировки образцов для ПЭМ.

По запросу
Диаметр образца (мм): до 18
Механическое утонение образца для просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ). Значительно сокращает время, затраченное на процесс финальной подготовки с помощью систем ионно-лучевой полировки.

По запросу
Утонение: от 10 микрон до 10 мм
Быстрое перфорирование образцов для ПЭМ из твердых или хрупких материалов без механического или термического повреждения. Создание образцов дисковой, цилиндрической и прямоугольной формы.

По запросу
Диаметр итогового образца: до 3 мм
Полноценный набор для выравнивания поверхностей и выполнения точного поперечного сечения для ПЭМ. Производит образцы с постоянной толщиной клеевого слоя

По запросу
Управление скоростью шлифовки: Автоматическое
Контроль усилия шлифования: Микрометр
Совместимость: модель 160
Простой в использовании, современный механический инструмент утонения, предназначенный для выполнения высококачественной подготовки образцов к электронной микроскопии.

По запросу
Разрешение: 0,34 нм
Дрейф: < 1,5 нм/минуту
Угол наклона (max): ±80°
Поле обзора: до 1,6 мм при 70°
Большие углы наклона образца и широкий диапазон перемещений для работы при комнатной температуре.

По запросу
Разрешение: 0,34 нм
Дрейф: < 1,5 нм/минуту
Угол наклона (max): ±80°
Поле обзора: до 1,6 мм при 70°
Материал наконечника: Бериллий
Оптимальное решение для получения трехмерной информации о структуре и элементном составе образца.

По запросу
Разрешение: 0,34 нм
Дрейф: < 1,5 нм/минуту
Угол наклона (max): до ±90°
Поле обзора: не ограничено
Наклон до 90° при расстоянии до полюсного наконечника менее 3 мм.

По запросу
Разрешение: 0,34 нм
Дрейф: < 1,5 нм/минуту
Угол наклона (max): до ±70°
Поле обзора: до 950 мкм при угле наклона 70°
Прецизионное вращение в одной плоскости внутри микроскопа.

По запросу
Разрешение: 0,34 нм
Дрейф: < 1,5 нм/минуту
Угол наклона (max): до ±70°
Поле обзора: до 950 мкм при угле наклона 70°
Прецизионное планарное вращение внутри микроскопа.

По запросу
Размер образца (картридж 1,0 мм): образец цилиндр/конус
Разрешение: 0,34 нм
Дрейф: < 1,5 нм/минуту
Угол наклона (max): Непрерывное и пошаговое (3 шага по 120°) вращение на угол 360°
Инновационный держатель образцов, имеющих форму стержня или конуса.

По запросу
Разрешение: 0,18 нм при угле наклона 0°
Дрейф: 1,5 нм/мин-1
Угол наклона (max): ±80°
Поле обзора: диам. 2 мм при угле наклона 0°
Транспортировка и низкоэнергетическая томография тонких образцов при криогенных температурах после их заморозки в гидратированном состоянии или витрификации.

По запросу
Разрешение: 0,34 нм
Дрейф: < 1,5 нм/минуту
Угол наклона (max): ±70°
Поле обзора: до 1 мм при угле наклона 70°
Защита образца при транспортировке до просвечивающего электронного микроскопа

По запросу
Метод: STEM
Регистрация изображений путем детектирования рассеянных на большие углы электронов с помощью сканирующей просвечивающей кольцевой темнопольной электронной микроскопии. Для использования с микроскопами компании Thermo Fisher Scientific.

По запросу
Нагрузка: до 160 кг
Материал: нержавеющая сталь
Требуемые газы: азот или воздух
Давление: 80 psi
Прецизионный стол исследовательского класса из нержавеющей стали для чистых помещений с максимальным уровнем демпфирования.

По запросу
Вакуумные кластерные инструменты PICOPLATFORM™ компании Picosun сочетают в себе уникальную масштабируемость и модульность всех инструментов АСО PICOSUN™. Кластерная система оборудована полностью стандартизированными решениями по автоматизации для промышленных производств.

По запросу
Инновационный генератор плазмы Picosun PICOPLASMA™ для проведения процессов плазменно-стимулированного АСО (ПАСО).

По запросу
Источник-измеритель с системой термоэлектрического охлаждения для тестирования мощных лазерных диодов и светодиодов.

По запросу
Оптические столы ClassOne™ CleanTop® разработаны для эксплуатации в условиях чистых помещений. Имеют стальную конструкцию и могут быть выполнены в 2 вариантах структурного демпфирования.

По запросу
Оптические столы исследовательского класса являются самой совершенной системой виброзащиты на рынке оптических виброизоляционных платформ. Максимально возможный уровень структурного демпфирования.

По запросу
Лабораторный класс оптических столов TMC обладает характеристиками, достаточными для исследовательских установок минимального уровня чувствительности с невысокими вибрационными требованиями.

По запросу
Оптические столы CleanTop®OpticalTop могут быть выполнены в «немагнитном» виде для применения в условиях сильных магнитных полей.

По запросу
Оптическая антивибрационная платформа для применения в условиях вакуума, имеющая непревзойденные на сегодняшний день эксплуатационные характеристики

По запросу
Материал подложек: Si, стекло, кварц, SiC, GaN, GaAs, LiNbO3, LiTaO3, InP
Температура обработки: 50 – 300°C
Прекурсоры: Жидкие, твердые, газообразные, озон

По запросу
Температура обработки: 50 – 400°C
Технологические процессы: Al2O3, ZnO, TiO2
Прекурсоры: жидкостные, твердые вещества, газ, озон; до 10 источников с 6 отдельными вводами
Установка ALD P-1000 Picosun предназначена для одиночной или пакетной обработки различных 3D объектов. Система проста в эксплуатации, так как имеет ручной механизм загрузки подложек в камеру.
Разработана специально для нанесения тонких пленок в промышленных масштабах на трехмерные образцы:
- изделия оптики,
- чеканные изделия (например, монеты)
- ювелирные изделия,
- изделия медицинского назначения (например медицинские импланты).

По запросу
Температура обработки: 50 – 500°C
Технологические процессы: Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы
Прекурсоры: жидкостные, твердые вещества, газ, озон;; до 8 источников с 4 отдельными вводами.
P-300B Picosun — установка атомно-слоевого осаждения для производства MEMS-устройств, таких как печатающие головки, датчики и микрофоны, и для нанесения покрытий на различные 3D-объекты, такие как детали механического оборудования, стеклянные или металлические листы, монеты, детали часов и ювелирные изделия, линзы, оптика, медицинские приборы, импланты.

По запросу
Температура обработки: 50 – 450°C
Технологические процессы: Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы
Загрузка подложки: Полуавтоматическая загрузка с помощью вертикальных загрузчиков (один или два) Дополнительный обогрев загрузочного шлюза
Прекурсоры: Жидкостные, твердые вещества, газ, озон; До 8 источников с 4 отдельными вводами
Установка ALD P-300BV Picosun - разработка для производства светодиодов, дискретных устройств и различных устройств MEMS, например печатающих головок, датчиков и микрофонов.

По запросу
В установке PICOFLOAT™ порошок, на который требуется нанести покрытие, находится в постоянном движении, что гарантирует образование однородных АСО плёнок на каждой частице с диаметром несколько десятков нанометров.

По запросу
Установки ALD R-200 Standard PICOSUN предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

По запросу
Температура обработки: до 400 °C
Покрытие: одно/двухстороннее
Прекурсоры: жидкостные, твердые вещества, газ, озон
Установка ALD Sprinter PICOSUN предназначена для крупносерийного ALD-производства 300 мм полупроводниковых пластин (например, компонентов памяти, транзисторов, конденсаторов), дисплеев и компонентов Интернета вещей.

По запросу
MEB 550 S Plassys позволяет проводить осаждение слоёв без повреждений поверхности и обратную литографию. Система имеет 6-киловаттный источник электронов, шлюзовую камера и держатель для пластин диаметром 10 см и менее.
Система электронно-лучевого напыления MEB 550 S предназначена для исследований и разработок. Данное оборудование имеет отличную репутацию во всем мире.