По всей России
Москва
Санкт-Петербург
пн-пт  10:00 - 19:00
8 (800) 301 13 17
+7 (495) 204 13 17
+7 (812) 509-20-91
office@sernia.ru
По всей России
Москва
Санкт-Петербург
Каталог
8 (800) 301 13 17
Заказать звонок
0 0
RU
EN
Главная страницаКаталогТехнологическое оборудование для научных исследований и промышленности

Технологическое оборудование для научных исследований и промышленности

Производитель
Назначение технологического оборудования
для травления металла
Количество на странице:
20
Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции RETINA HANDHELD
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Тип установки: переносная
Площадь удаления (см): 10 (17,5; 30)
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Переносная модель для обработки тяжелой неподвижной детали.



Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции RETINA TOWER
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 75*30*20
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 97х74 см) для использования в цехах и производственных помещениях.



Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции RETINA TOWER HEAVY DUTY
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 90*100*50
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 112х172 см) для обработки тяжелых деталей, используется в цехах и производственных помещениях.



Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции RETINA TOWER ROBOT
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 150*100*25
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 168х142 см) для использования в цехах и производственных помещениях.



Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции RETINA TOWER XY12
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 70*175*45
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 97х107 см) для использования в цехах и производственных помещениях.



Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции RETINA TOWER XY18
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 85*90*45
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 130х140 см) для использования в цехах и производственных помещениях.



Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции RETINA TOWER XY24
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Тип установки: напольный
Площадь удаления (см): 100*105*45
Мощность лазера (расширение): 20 Вт (до 100 Вт)

Напольная модель (размер основания 145х155 см) для использования в цехах и производственных помещениях.



Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции и кросс-секционирования FALIT DUO™
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Площадь удаления: 33*33 мм
Мощность лазера (расширение): 10 Ватт (12 Ватт/ 5 Ватт УФ)

Компактная напольная система для лазерной декапсуляции и кросс-секционирования.

Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции и кросс-секционирования FALIT™ DUO-GEL
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Площадь удаления: 33*33 мм
Мощность лазера (расширение): 10 Ватт (12 Ватт/ 5 Ватт УФ)

Напольная система для лазерной декапсуляции широкого спектра и кросс-секционирования. 

Сравнить
В избранное
Установка лазерной декапсуляции и кросс-секционирования FALIT™ TRIO
Производитель: Control Laser
Цена:
 По запросу
Площадь удаления: 33*33 мм
Мощность лазера (расширение): 10 Ватт (12 Ватт/ 5 Ватт УФ / 30 Ватт ИК)

Напольная система для лазерной декапсуляции широкого спектра и кросс-секционирования с тремя лазерными головками.

Сравнить
В избранное
Установка плазменной обработки поверхности Cirrus Henniker
Производитель: Henniker Plasma
Цена:
 По запросу
Размеры: Ш 483 мм x В 177 мм x Д 451 мм
Мощность: до 300 Вт
Работа на воздухе: да
Кол-во источников плазмы: 1

Системы плазменной обработки поверхности на воздухе.
Установка идеально подходят для активации поверхности, очистки и модификации широкого спектра материалов: полимеров, металлов, стекла, керамики и др.

Сравнить
В избранное
Установка плазменной обработки поверхности Nimbus Henniker
Производитель: Henniker Plasma
Цена:
 По запросу
Размеры: Ш 483 мм x В 177 мм x Д 451 мм
Мощность: до 300 Вт
Работа на воздухе: да
Кол-во источников плазмы: 2

НОВИНКА!!!
Установка Nimbus - это система для плазменной обработки поверхности с 2-мя плазменными источниками.
Система предназначена для активации поверхности, очистки и модификации поверхности полимеров, металлов, стекла, керамики и пр.

Сравнить
В избранное
Установка плазменной обработки поверхности усовершенствованная Nebula Henniker
Производитель: Henniker Plasma
Цена:
 По запросу
Размеры: Ш 612 мм x В 1875 мм x Д 852 мм (+ 200 мм сбоку для кабелей)
Мощность: до 1000 Вт
Работа на воздухе: да
Кол-во источников плазмы: 1

Усовершенствованная система плазменной обработки поверхности с камерами различных размеров, обладающая широкими возможностями. 

Сравнить
В избранное
Установка плазмохимического травления и осаждения материалов Minilock Duo Trion
Производитель: Trion Technology
Цена:
 По запросу

НОВИНКА!!!
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.


Сравнить
В избранное
Установка плазмохимического травления Сидмэл SAME200
Производитель: СИДМЭЛ
Цена:
 По запросу
Скорость травления: от 10 мкм/мин
Мощность: 0-200 Вт
Частота: 2.4 – 2.5 ГГц
Область травления: 15мм х 15мм
Максимальный размер образца: D 160 мм, H 80 мм

Установка плазмохимического травления (Россия) для исследований в области микроэлектроники. Предназначена для  декапсуляции микросхем. Подойдет для НИОКР-лабораторий, опытных и мелкосерийных производств.





Сравнить
В избранное
Установка усиления диффузии Picoflow для ALD систем Picosun
Производитель: Picosun
Цена:
 По запросу

Усилитель диффузии PICOFLOW™ позволяет наносить покрытие на объекты с исключительно большим соотношением сторон без риска обратной диффузии прекурсоров в линии подачи.

Сравнить
В избранное
Установка электронно-лучевого напыления со шлюзовой камерой MEB 550 S Plassys
Производитель: Plassys
Цена:
 По запросу

MEB 550 S Plassys позволяет проводить осаждение слоёв без повреждений поверхности и обратную литографию. Система имеет 6-киловаттный источник электронов, шлюзовую камера и держатель для пластин диаметром 10 см и менее.
Система электронно-лучевого напыления MEB 550 S предназначена для исследований и разработок. Данное оборудование имеет отличную репутацию во всем мире.