пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы (ПХГФО)

Выбрать Категорию
Количество на странице:
20
Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы, ПХО или ПХГФО (Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) - процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы