Minilock Orion III — установка для плазмохимического осаждения тонких пленок из газовой фазы с вакуумным шлюзом (ПХО, PECVD) лабораторного и промышленного назначения
НОВИНКА!!!
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.
Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы, ПХО или ПХГФО (Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) - процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы
