
Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Minilock Orion III — установка для плазмохимического осаждения тонких пленок из газовой фазы с вакуумным шлюзом (ПХО, PECVD) лабораторного и промышленного назначения

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Oracle III — кластерная система плазмохимического травления и осаждения пленок, диэлектриков (RIE; RIE+ICP; PECVD) промышленного назначения

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Orion III PECVD — установка для осаждения тонких плёнок из газовой фазы в вакууме. Предназначена для лабораторного применения.

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Titan Trion — производственная установка (PECVD; RIE+HDICP; RIE) для травления или осаждения диэлектриков

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
НОВИНКА!!!
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.
Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы, ПХО или ПХГФО (Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) - процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы