
Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Небольшая установка плазмохимического травления c вакуумным шлюзом промышленного назначения. Установка может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода.

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Oracle III — кластерная система плазмохимического травления и осаждения пленок, диэлектриков (RIE; RIE+ICP; PECVD) промышленного назначения

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Лабораторная установка плазмохимического травления. Поддерживает процессы: RIE; RIE+ICP.

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Настольная, лабораторная, базовая модель. Sirus T2 Trion (RIE) - установка плазмохимического травления. Может использоваться для любых процессов с применением фторных газов и кислорода.

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
Titan Trion — производственная установка (PECVD; RIE+HDICP; RIE) для травления или осаждения диэлектриков

Производитель: Trion Technology
Цена:
По запросу
По запросу
НОВИНКА!!!
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.

Производитель: Plassys
Цена:
По запросу
По запросу
Источники индуктивно связанной плазмы (ICP): размер пучка 14 или 20 см
Плотность тока: до 4 мA/см2
Диапазон энергий: от 100 до 1000 эВ
Плотность тока: до 4 мA/см2
Диапазон энергий: от 100 до 1000 эВ
Реактивное ионное травление, РИТ (Reactive Ion Etch, RIE) - технология травления, при котором химически активная плазма используется для удаления материала с подложки.