пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

SIRUS T2 Trion - настольная установка плазмохимического травления для лабораторий

Производитель:
Trion Technology Flag
Настольная, лабораторная, базовая модель. Sirus T2 Trion (RIE) - установка плазмохимического травления. Может использоваться для любых процессов с применением фторных газов и кислорода. 
Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Документация
  • Оплата и доставка

Настольная установка плазмохимического травления SIRUS T2 Trion

SIRUS T2_1_2web.jpg

Sirus T2 (базовая модель) — это установка плазмохимического реактивно-ионного травления (RIE) на основе фторсодержащих газов.

Система предназначена для травления диэлектриков и тонких пленок. Малые размеры и надежная конструкция делают Sirus T2 незаменимой для лабораторных условий.

Система может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода.




Реактивно-ионное травление

Работа системы основана на технологии реактивно-ионного травления (Reactive Ion Etch, RIE) — технологии травления, где для удаления материала с подложки используется химически активная плазма. Плазма создаётся при низком давлении при помощи газового разряда. Поступающие из плазмы ионы ускоряются за счёт разности потенциалов между ней и подложкой. Совместное действие химических реакций, ионного распыления и ионной активации приводит к разрушению материала подложки, образованию летучих соединений и десорбции их с поверхности.

Состав установки плазмохимического травления:

  • Реактор с нижним электродом ⍉ 200 (максимальный размер образца - ⍉ 200).
  • Система управления на основе ПК с сенсорным управлением.Два контроллера потока газов (опционально – до 4).
  • Автоматическое согласующее устройство с ВЧ генератором 13,56 МГц 600Вт.
  • Система аварийного отключения
  • Автоматическая система управления давлением.
  • Турбомолекулярный насос 170 л/с.
  • Форвакуумный насос 660 л/мин.

Требования к подаче газов

Пользователь должен обеспечить подачу технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ.  

  • КОЛИЧЕСТВО ГАЗОВ: определяется технологическими процессами
  • ДАВЛЕНИИ В ЛИНИИ: 1-3 атм.
  • ТРУБОПРОВОД: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой
  • ТИП СОЕДИНЕНИЯ: VCR.