пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Minilock-Orion III Trion - установка для осаждения тонких пленок для лабораторий и пилотных линий

Производитель:
Trion Technology Flag
Minilock Orion III — установка для плазмохимического осаждения тонких пленок из газовой фазы с вакуумным шлюзом (ПХО, PECVD) лабораторного и промышленного назначения
Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Документация
  • Оплата и доставка

Описание установки для осаждения пленок Minilock-Orion III PECVD

Minilock-Orion III PECVD — компактная система для осаждения тонких пленок из газовой фазы (ПХО) с вакуумным шлюзом, подходит для лабораторного и промышленного применения. Уникальный дизайн камеры позволяет осаждать пленки с низким внутренним напряжением и с отличной равномерностью при низком уровне мощности. 

Нижний электрод доступен в размерах 200 и 300 мм. При использовании держателей, можно размещать в камере несколько небольших образцов различных размеров (например, 4х3”, 3x4”, 7x2”, 60x48 мм и др.) 

Загрузка образцов осуществляется через загрузочный вакуумный шлюз. Такая система загрузки повышает безопасность использования токсичных газов, предотвращая контакт персонала с остаточными продуктами реакции в камере. Так же, шлюз позволяет держать реакционную камеру под вакуумом, что предохраняет реактор от попадания влаги. 

Система отвечает всем нормам безопасности, предъявляемым к оборудованию для использования в лабораторных условиях и для производственных условий на пилотных линиях.

Процессы

Используется для процессов, где применяются опасные или самовоспламеняющиеся газы.

Осаждаемые пленки

Пленки для осаждения: оксиды, нитриды, оксинитриды, аморфный кремний и карбид кремния.

Процессные газы

Процессные газы: 100% силан, аммиак, ТЭОС, диэтилсилан, закись азота, кислород, азот, триметилсилан и метан.

Требования к подаче технологических газов:

Пользователю необходимо обеспечить подачу технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ. Количество газов: определяется технологическими процессами.  Давление в линии: 1-3 атм. Трубопровод: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой. Тип соединения: VCR.

Инженерный персонал компании Серния Инжиниринг может оказать поддержку в подготовке системы подачи технологических газов.

Цена Minilock-Orion III Trion

Установка плазменно-химического осаждения тонких пленок из газовой фазы (ПХО) Minilock-Orion III (PECVD)  выгодно отличается по цене от аналогичных систем конкурентов.

Опции:

  • Температурный контроль — температура нижнего электрода может регулироваться от 50° C до 400° C с помощью резистивного нагревателя с ИК-термопарой.

  • Доп. триодный источник для контроля напряженности пленок — доп.источник для контроля напряженности пленок 600 Вт (13.56МГц). 

 Состав установки Minilock-Orion III 

Реактор

доступны размеры нижнего электрода – 200/300 мм. Обработка одиночных пластин или нескольких пластин размерами 76-300 мм (опционально – заказ держателя для малых образцов). Возможность загрузки пластин в пакетном режиме.

Нижний электрод

базовая комплектация электродом мощностью 300 Вт (350-460 кГц)

Сенсорный экран

цветной сенсорный дисплей для быстрого и удобного управления

Система управления

контроллер ПК

Центральная система питания

распределение электропитания между всеми периферийными устройствами

Система контроля давления

Специальный клапан регулируется контроллером, возможность независимого контроля давления

Газораспределительная система

обеспечивает максимальную безопасность и чистоту процессов (до 8 контроллеров потока)

Вакуумный шлюз

включает манипулятор, запорный клапан реактора и камеру вакуумного шлюза

Вакуумная система

комплектация на выбор заказчика: линейка механических форвакуумных насосов в соотв. с требованиями плазмохимических процессов