Orion III Trion - установка для осаждения тонких пленок для лабораторий

Установка осаждения пленок (PECVD) Orion III для лабораторий

Orion III PECVD – это компактная установка, предназначенная для осаждения тонких пленок из газовой фазы. Уникальный дизайн камеры позволяет наносить пленки с низким внутренним напряжением при низком уровне мощности. Система отвечает всем нормам безопасности для использования в лабораторных условиях и на пилотных линиях.

Оборудование соответствует стандарту безопасности SEMI S2-0310/S8-0308.

Состав установки Orion III Trion для осаждения пленок:

• Реактор - нижний электрод доступен в двух размерах – 200 и 300 мм, может обрабатывать одиночные подложки или кусочки пластин размером от 51 мм до 300 мм (для малых кусочков опционально изготавливаются держатели).
• Нижний электрод – система поставляется с электродом мощностью 300 Вт (350-460кГц).
• Сенсорный экран для управления - цветной дисплей с сенсорным экраном для управления процессом.*
• Система управления – контроллер ПК обеспечивает простое и надежное управление системой.*
• Центральная система питания распределяет электропитание между всеми периферийными устройствами.*
• Система контроля давления - специальный клапан регулируется контроллером, возможность независимого контроля давления.*
• Газораспределительная система - обеспечивает максимальную безопасность и чистоту процессов; возможность установить до 8 контроллеров потока.*
• Вакуумная система - на выбор предлагается линейка механических форвакуумных и высоковакуумных насосов в соответствии с требованиями плазмохимических процессов.*

Опции установки для осаждения пленок:

Температурный контроль - температура нижнего электрода может регулироваться от 50 ° C до 400 ° C с помощью резистивного нагревателя с ИК-термопарой.

Дополнительный источник для контроля напряженности пленок 600 Вт (13.56МГц) .

Применение установки осаждения пленок:

Используется для процессов, где не применяются самовоспламеняющиеся газы.

Пленки для осаждения: оксиды, нитриды, оксинитриды, аморфный кремний.

Процессные газы: <20% силана, аммиак, ТЭОС, диэтилсилан, закись азота, кислород, азот.

Особенности установки Orion III Trion для осаждения пленок:

• температура столика до 400°C;
  
• контроль напряженности пленок (опция);
  
• мощная откачная система;
  
• размер пластин до 300 мм;
  
• доступные конфигурации: PECVD

Цена Orion III PECVD

Orion III PECVD выгодно отличается по цене от аналогичных систем, в связи с этим многие пользователи во всем мире сделали свой выбор именно в пользу этого оборудования.

Требования к подаче технологических газов

Пользователь должен обеспечить подачу технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ.

Количество газов: определяется технологическими процессами. Давление в линии: 1-3 атм. Трубопровод: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой. Тип соединения: VCR.