
По запросу
Технологический процесс : HDCVD / PECVD
Minilock ALD — установка для осаждения тонких пленок в тепловом и плазменном режимах

По запросу
Minilock Orion III — установка для плазмохимического осаждения тонких пленок из газовой фазы с вакуумным шлюзом (ПХО, PECVD) лабораторного и промышленного назначения

По запросу
Небольшая установка плазмохимического травления c вакуумным шлюзом промышленного назначения. Установка может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода.

По запросу
Oracle III — кластерная система плазмохимического травления и осаждения пленок, диэлектриков (RIE; RIE+ICP; PECVD) промышленного назначения

По запросу
Orion III PECVD — установка для осаждения тонких плёнок из газовой фазы в вакууме. Предназначена для лабораторного применения.

По запросу
Лабораторная установка плазмохимического травления. Поддерживает процессы: RIE; RIE+ICP.

По запросу
Настольная, лабораторная, базовая модель. Sirus T2 Trion (RIE) - установка плазмохимического травления. Может использоваться для любых процессов с применением фторных газов и кислорода.

По запросу
Titan Trion — производственная установка (PECVD; RIE+HDICP; RIE) для травления или осаждения диэлектриков

По запросу
Новейшая система плазменной декапсуляции PlasmaEtch Nisene отвечает передовым мировым стандартам в области анализа отказов, позволяя работать с небольшими по размеру структурами, содержащими чувствительные к внешнему воздействию компоненты.

По запросу
НОВИНКА!!!
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.