АСМ Nano-Observer CSI - гибкий инструмент для исследований на наноуровне. Комплектуется большим числом опций и дополнительных измерительных модулей, что значительно расширяет его исследовательские возможности. Интуитивно понятный интерфейс позволяет быстро овладеть навыками использования АСМ.
Вакуумные кластерные инструменты PICOPLATFORM™ компании Picosun сочетают в себе уникальную масштабируемость и модульность всех инструментов АСО PICOSUN™. Кластерная система оборудована полностью стандартизированными решениями по автоматизации для промышленных производств.
Оптические столы ClassOne™ CleanTop® разработаны для эксплуатации в условиях чистых помещений. Имеют стальную конструкцию и могут быть выполнены в 2 вариантах структурного демпфирования.
Оптические столы исследовательского класса являются самой совершенной системой виброзащиты на рынке оптических виброизоляционных платформ. Максимально возможный уровень структурного демпфирования.
Оптические столы научного класса обладают высокими конструкционными показателями с уменьшенным по сравнению со столами исследовательского класса уровнем структурного демпфирования. Уровень пиков податливости превышен в 4 раза по сравнению с платформами исследовательского класса.
Диапазон изменений значений источника тока: от 100 фА до 100 мА Длина записи : 65000 точек Встроенные интерфейсы: RS-232, Trigger Link, и цифровой интерфейс ввода-вывода Выходное напряжение : от 0.1 В до 105 В с шагом 10 мВ
Для диагностики и тестирования микроэлектроники с малым уровнем потребления мощности требуются источники тока сверхнизкого уровня. Задающий сигнал сверхнизкого уровня вызывает сверхнизкий уровень отклика, что затрудняет получение результатов измерения. Для выполнения этой задачи требуются источники малых токов Keithley 6220.
Диапазон изменений значений источника тока: от 100 фА до 100 мА Длина записи : до 64000 точек Встроенные интерфейсы: RS-232, GPIB, Ethernet Выходное напряжение : от 0.1 В до 105 В с шагом 10 мВ
Источник постоянного и переменного тока Keithley 6221 используется для получения токов сверхмалых уровней и имеющих сверхнизкий уровень шумов, для постоянного тока, для переменного тока, а также имеет встроенный генератор сигналов произвольных форм.
ResiScope II – это продолжение модуля ResiScope, который был разработан для проведения контактных АСМ экспериментов. Новый модуль ResiScope II - это система получения данных об электрическом сопротивлении образца с большим разрешением.
ResiScope II используется для исследований на АСМ Nano-Observer CSI - конфигурируемый АСМдля исследований на наноуровне. Комплектуется большим числом опций и дополнительных измерительных модулей, что значительно расширяет его исследовательские возможности.
Размеры и тип пластин : мелкие и крупные 3D-объекты Температура обработки: 50 – 400°C Технологические процессы: Al2O3, ZnO, TiO2 Прекурсоры: жидкостные, твердые вещества, газ, озон; до 10 источников с 6 отдельными вводами
Установка ALD P-1000 Picosun предназначена для одиночной или пакетной обработки различных 3D объектов. Система проста в эксплуатации, так как имеет ручной механизм загрузки подложек в камеру.
Разработана специально для нанесения тонких пленок в промышленных масштабах на трехмерные образцы:
изделия оптики,
чеканные изделия (например, монеты)
ювелирные изделия,
изделия медицинского назначения (например медицинские импланты).
Размеры и тип пластин: пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.; подложки, отличные от пластин; образцы с большим аспектным отношением. Температура обработки: 50 – 500°C Технологические процессы: Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы Прекурсоры: жидкостные, твердые вещества, газ, озон;; до 8 источников с 4 отдельными вводами.
P-300B Picosun — установка атомно-слоевого осаждения для производства MEMS-устройств, таких как печатающие головки, датчики и микрофоны, и для нанесения покрытий на различные 3D-объекты, такие как детали механического оборудования, стеклянные или металлические листы, монеты, детали часов и ювелирные изделия, линзы, оптика, медицинские приборы, импланты.
Размер и тип подложки: Пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.; Подложки, отличные от пластин; Образцы с большим аспектным отношением. Температура обработки: 50 – 450°C Технологические процессы: Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы Загрузка подложки: Полуавтоматическая загрузка с помощью вертикальных загрузчиков (один или два) Дополнительный обогрев загрузочного шлюза Прекурсоры: Жидкостные, твердые вещества, газ, озон; До 8 источников с 4 отдельными вводами
Установка ALD P-300BV Picosun - разработка для производства светодиодов, дискретных устройств и различных устройств MEMS, например печатающих головок, датчиков и микрофонов.
В установке PICOFLOAT™ порошок, на который требуется нанести покрытие, находится в постоянном движении, что гарантирует образование однородных АСО плёнок на каждой частице с диаметром несколько десятков нанометров.
Установки ALD R-200 Standard PICOSUN предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).
