Minilock-Orion III Trion - установка для лабораторий и пилотных линий
Minilock Orion III TRION – установка для осаждения тонких пленок из газовой фазы. Подходит для изготовления MEMC, полупроводниковых соединений и пр. Оптимальное решение для опытных производств с ограниченным бюджетом.
Компактная установка Minilock-Orion III от компании TRION (США) разработана для осаждения тонких пленок из газовой фазы (ПХО) и прекрасно подходит для лабораторного и промышленного применения. Minilock-Orion III TRION выполнена в конфигурации PECVD (система с вакуумным шлюзом/ПХО) и предназначена для использования при процессах, где применяются токсичные вещества или самовоспламеняющиеся газы. Система отвечает всем нормам безопасности, предъявляемым к оборудованию для использования в лабораторных условиях и для производственных условий на пилотных линиях (соответствует стандарту безопасности SEMI S2-0310/S8-0308).
Особенности Minilock-Orion III - PECVD
PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) - усиленный плазмой CVD-процесс, который использует плазму для разложения прекурсоров, активации поверхности подложки и ионного ассистирования.
Уникальный дизайн камеры с вакуумным шлюзом (конфигурация PECVD / ПХО) - позволяет осаждать пленки с низким внутренним напряжением и с отличной равномерностью при низком уровне мощности. Нижний электрод выполняется в размерах 200 и 300 мм на выбор заказчика. При использовании держателей возможно размещение в камере нескольких небольших образцов различных размеров (например, 4х3”, 3x4”, 7x2”, 60x48 мм и др.)
Загрузка образцов через специальный вакуумный шлюз (PECVD / ПХО) повышает безопасность использования токсичных газов, предотвращая контакт персонала с остаточными продуктами реакции в камере. Также шлюз позволяет держать реакционную камеру под вакуумом, что предохраняет реактор от попадания влаги.
Преимущества Minilock-Orion III
- Температурный контроль — температура нижнего электрода может регулироваться от 50° C до 400° C с помощью резистивного нагревателя с ИК-термопарой;
- Дополнительный триодный источник для контроля напряженности пленок — дополнительный источник для контроля напряженности пленок 600 Вт (13.56МГц);
- Гибкая конфигурация установки под конкретные задачи заказчика – производитель проводит индивидуальную сборку в собственном цехе механической обработки;
- Гарантированное качество - оборудование произведено компанией с 25-летним опытом работы;
- Сервисный центр в России - обеспечение заказчика полноценным пред- и пост-продажным техническим сервисом компании TRION через компанию «Серния Инжиниринг».
Краткие технические характеристики Minilock-Orion III
|
Процессы |
для процессов с применением опасных токсичных веществ или самовоспламеняющихся газов. |
|
Осаждаемые пленки |
оксиды, нитриды, оксинитриды, аморфный кремний и карбид кремния. |
|
Процессные газы |
100% силан, аммиак, ТЭОС, диэтилсилан, закись азота, кислород, азот, триметилсилан и метан. |
|
Требования к подаче технологических газов |
необходимо обеспечение подачи технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ. Количество газов: определяется технологическими процессами. Давление в линии: 1-3 атм. Трубопровод: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой. Тип соединения: VCR.* |
*Инженерный персонал компании "Серния Инжиниринг" может оказать поддержку в подготовке системы подачи технологических газов.
О компании TRION Technology
Компания TRION Technology (США) – производитель плазмохимического оборудования для травления и осаждения тонких пленок с 1989 года. Отличительная особенность TRION – особое внимание к новым разработкам на фоне обязательной полной проверки оборудования в реальных условиях производства и обеспечение конечного решения проблемы пользователя.
Если Вас заинтересовало плазмохимическое оборудование TRION, обращайтесь в нашу компанию. Наши специалисты проконсультируют Вас и сориентируют по ценам на продукцию. Присылайте свои вопросы на электронную почту: info@sernia.ru или позвоните +7 (495) 204-13-17.
СМОТРЕТЬ установку Minilock-Orion III в каталоге оборудования TRION >>>
