Установки атомно-слоевого осаждения для крупномасштабного производства
Компания Picosun, всемирно известный разработчик и производитель оборудования для атомно-слоевого осаждения, пионер в области технологий ALD, разработала модель P-300S Picosun для крупномасштабного производства. Данная модель предназначена для работы с подложками размером 300 мм.
P-300S Picosun - установка ALD для производства полупроводников
Технология ALD от компании Picosun наиболее подходит для предприятий микроэлектроники, занимающимся производством полупроводников. В частности, установка атомно-слоевого осаждения P-300S Picosun предназначена для производства компонентов, используемых на ИМС и МЭМС: устройств памяти, микропроцессоров, жестких дисков, печатающих головок, микрофонов, датчиков.
Данная установка ALD будет наиболее эффективна для крупномасштабного производства и подходит для работы с подложками диаметром 300 мм. Основное преимущество установки P-300S Picosun - возможность автоматически обрабатывать одиночные пластины на базе стандартных вакуумных кластерных платформ.
Высокие стандарты качества установок ALD Picosun
Оборудование ALD Picosun удовлетворяют строжайшим требованиям, установленным для производства полупроводников. Так, установка атомно-слоевого осаждения P-300S Picosun прошла сертификацию в соответствии с требованиями SEMI S2/S8.
Оборудование Picosun выдерживает самые жесткие стандарты отрасли благодаря внедрению новейших технологий. Так, конструкция камеры с горячими стенками и раздельными выводами отлично зарекомендовала себя на производстве, так как обеспечивает высоки выход готовой продукции и отличное качество пленок. Пленки, полученные с помощью технологии ALD Picosun, отличаются высокой конформностью покрытия даже на образцах с большим аспектным соотношением.
Модели установок ALD Picosun
Ассортимент продукции Picosun достаточно широк, рассчитан как на производственные предприятия, так и на организации, занимающиеся R&D исследованиями. Линейка продукции состоит из 2 крупных серий: R и P. R-серия предназначена для исследований и разработок, P-серия - для промышленного назначения.
Установки ALD P-серии для промышленного производства
Серия P ориентирована на промышленное производство полупроводников и частично на другие сферы промышленности: оптика и дисплеи; производство медицинского оборудования; порошковые технологии. Данная серия включает модели P-300F, P-300S, P-300B, P-300BV, P-1000. Основные технические характеристики P-серии представлены в таблице ниже.
Технические характеристики P-серии установок ALD Picosun
| Модель | Размер и тип подложки |
Температура обработки |
Технологические процессы |
Загрузка подложки | Прекурсоры |
|---|---|---|---|---|---|
|
P-300F |
Пластины 100/150/200 мм в кассетах до 50 шт.; Образцы с большим аспектным отношением; Материалы подложки: Si, стекло, кварц, SiC, GaN, GaAs, LiNbO3, LiTaO3, InP |
50 – 300°C; |
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2 и металлы |
Автоматическая загрузка с помощью вакуумного кластерного инструмента с возможностью вертикального переворота; Загрузка партии из кассеты в кассету с помощью вакуумной кластерной системы Picoplatform™ 200; Дополнительная станция SMIF |
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон; До 12 источников с 6 отдельными вводами |
|
P-300S |
Одиночные пластины до 300 мм; Образцы с большим аспектным отношением. |
50 – 500°C |
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы |
Загрузочный шлюз с магнитным манипулятором; Возможна автоматическая загрузка с помощью вакуумных кластерных систем Picoplatform™ 200 или Picoplatform™ 300; Кластерные системы поддерживают загрузку из кассеты в кассету и использование унифицированных боксов для хранения и перевозки полупроводниковых пластин; Загрузка в шкаф N2. |
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон, плазма; До 12 источников с 6 отдельными вводами |
|
P-300B |
Пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.; Подложки, отличные от пластин; Образцы с большим аспектным отношением. |
50 – 500°C |
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы |
Ручная загрузка с помощью пневматического подъемника Линейная полуавтоматическая загрузка Загрузка с помощью промышленного робота |
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон; До 8 источников с 4 отдельными вводами |
|
P-300BV |
Пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.; Подложки, отличные от пластин; Образцы с большим аспектным отношением. |
50 – 450°C |
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы |
Полуавтоматическая загрузка с помощью вертикальных загрузчиков (один или два) Дополнительный обогрев загрузочного шлюза |
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон; До 8 источников с 4 отдельными вводами |
|
P-1000 |
Мелкие и крупные 3D-объекты (например, механические детали, стеклянные или металлические листы, монеты, ювелирные изделия, медицинские импланты) |
50 – 400°C |
Al2O3, ZnO, TiO2 |
Ручная загрузка с помощью загрузочных приспособлений |
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон; До 10 источников с 6 отдельными вводами |
