Соединяя науку и технологии office@sernia.ru
пн-пт 10:00 – 19:00
сб-вс выходные
+7 (495) 204 13 17
8 (800) 301 13 17

Атомно-слоевое осаждение в промышленном масштабе

Установки атомно-слоевого осаждения для крупномасштабного производства


Компания Picosun, всемирно известный разработчик и производитель оборудования для атомно-слоевого осаждения, пионер в области технологий ALD, разработала модель P-300S  Picosun для крупномасштабного производства. Данная модель предназначена для работы с подложками размером 300 мм.

P-300S Picosun - установка ALD для производства полупроводников

Технология ALD от компании Picosun наиболее подходит для предприятий микроэлектроники, занимающимся производством полупроводников. В частности, установка атомно-слоевого осаждения P-300S Picosun предназначена для производства компонентов, используемых на ИМС и МЭМС: устройств памяти, микропроцессоров, жестких дисков, печатающих головок, микрофонов, датчиков.

Данная установка ALD будет наиболее эффективна для крупномасштабного производства и подходит для работы с подложками диаметром 300 мм. Основное преимущество установки P-300S Picosun - возможность автоматически обрабатывать одиночные пластины на базе стандартных вакуумных кластерных платформ.

Высокие стандарты качества установок ALD Picosun

Оборудование ALD Picosun удовлетворяют строжайшим требованиям, установленным для производства полупроводников. Так, установка атомно-слоевого осаждения P-300S Picosun прошла сертификацию в соответствии с требованиями SEMI S2/S8.

Оборудование Picosun выдерживает самые жесткие стандарты отрасли благодаря внедрению новейших технологий. Так, конструкция камеры с горячими стенками и раздельными выводами отлично зарекомендовала себя на производстве, так как обеспечивает высоки выход готовой продукции и отличное качество пленок. Пленки, полученные с помощью технологии ALD Picosun, отличаются высокой конформностью покрытия даже на образцах с большим аспектным соотношением.

Модели установок ALD Picosun

Ассортимент продукции Picosun достаточно широк, рассчитан как на производственные предприятия, так и на организации, занимающиеся R&D исследованиями. Линейка продукции состоит из 2 крупных серий:  R и P. R-серия предназначена для исследований и разработок, P-серия - для промышленного назначения.

Установки ALD P-серии для промышленного производства

Серия P ориентирована на промышленное производство полупроводников и частично на другие сферы промышленности: оптика и дисплеи; производство медицинского оборудования; порошковые технологии. Данная серия включает модели P-300F, P-300S, P-300B, P-300BV, P-1000. Основные технические характеристики P-серии представлены в таблице ниже.

Технические характеристики P-серии установок ALD Picosun
Модель Размер и тип подложки Температура обработки
Технологические процессы
Загрузка подложки Прекурсоры

P-300F

Пластины 100/150/200 мм в кассетах до 50 шт.;
Образцы с большим аспектным отношением;
Материалы подложки: Si, стекло, кварц, SiC, GaN, GaAs, LiNbO3, LiTaO3, InP
50 – 300°C;

Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2 и металлы

Автоматическая загрузка с помощью вакуумного кластерного инструмента с возможностью вертикального переворота;
Загрузка партии из кассеты в кассету с помощью вакуумной кластерной системы Picoplatform™ 200;
Дополнительная станция SMIF

Жидкостные, твердые вещества, газ, озон;
До 12 источников с 6 отдельными вводами

P-300S

Одиночные пластины до 300 мм;
Образцы с большим аспектным отношением.
50 – 500°C
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы

Загрузочный шлюз с магнитным манипулятором;
Возможна автоматическая загрузка с помощью вакуумных кластерных систем Picoplatform™ 200 или Picoplatform™ 300;
Кластерные системы поддерживают загрузку из кассеты в кассету и использование унифицированных боксов для хранения и перевозки полупроводниковых пластин;
Загрузка в шкаф N2.

Жидкостные, твердые вещества, газ, озон, плазма;
До 12 источников с 6 отдельными вводами

P-300B

Пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.;
Подложки, отличные от пластин;
Образцы с большим аспектным отношением.

50 – 500°C
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы

Ручная загрузка с помощью пневматического подъемника
Линейная полуавтоматическая загрузка
Загрузка с помощью промышленного робота
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон;
До 8 источников с 4 отдельными вводами

P-300BV

Пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.;
Подложки, отличные от пластин;
Образцы с большим аспектным отношением.

50 – 450°C
Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы

Полуавтоматическая загрузка с помощью вертикальных загрузчиков (один или два)
Дополнительный обогрев загрузочного шлюза
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон;
До 8 источников с 4 отдельными вводами

P-1000

Мелкие и крупные 3D-объекты (например, механические детали, стеклянные или металлические листы, монеты, ювелирные изделия, медицинские импланты)

50 – 400°C
Al2O3, ZnO, TiO2
Ручная загрузка с помощью загрузочных приспособлений
Жидкостные, твердые вещества, газ, озон;
До 10 источников с 6 отдельными вводами