пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Установка ALD P-300S Picosun длч производства компонентов ИМС

Производитель:
Picosun Flag
Установка атомно-слоевого осаждения для производства компонентов, используемых на ИМС, МЭМС.
Разработана для крупномасштабного производства.
Полностью автоматизированный процесс обработки одиночных пластин.

Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Тех.характеристики
  • Документация
  • Оплата и доставка

Установка атомно-слоевого осаждения P-300S Picosun для крупномаштабного производства

Установка атомно-слоевого осаждения P-300 S Picosun предназначена для производства компонентов, используемых на ИМС. Оборудование ALD P-300 S Picosun подойдет для изготовления устройств памяти, микропроцессоров, жестких дисков. Данную установку ALD можно также использовать для производства МЭМС, например, для изготовления печатающих головок, микрофонов, датчиков.

Отличительной особенностью оборудования ALD PICOSUN™ P-300 S является возможность использования данного оборудования для крупномасштабного производства. Это новейшая разработка в мире применения технологии ALD для промышленности.

Основные преимущества установки ALD P-300S Picosun

Основное преимущество установки P-300 S Picosun - возможность автоматически обрабатывать одиночные пластины на базе стандартных вакуумных кластерных платформ. Установка ALD P-300S прошла сертификацию в соответствии с требованиями SEMI S2/S8. С помощью протокола SECS/GEM она интегрируется в систему автоматизации предприятия.

Что касается качества, оборудование ALD Picosun удовлетворяют строжайшим требованиям, установленным для производства полупроводников. Это стало возможным благодаря внедрению разработанной и запатентованной компанией Picosun особой конструкции камеры c горячими стенками и полностью раздельными вводами.

Данная технология обеспечивает высокий выход готовой продукции и отличное качество пленок. Пленки, полученные с помощью технологии ALD, характеризуется низким уровнем постпроцессных частиц, отличными электрическими и оптическими характеристиками.

Технология Picoflow™, разработанная Picosun для улучшения процессов диффузии, обеспечивает высокую конформность покрытия даже на образцах с большим аспектным соотношением.

Технические характеристики установки ALD P-300S Picosun

 Характеристики

Описание
Размеры и тип пластин

- Одиночные пластины до 300 мм
- Образцы с большим аспектным отношением (до 1:2500)

Температура обработки

- от 50 до 500°C

Особенности технологических процессов

- Время обработки отдельных пластин до 10 с
- Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы
- Неоднородность покрытия < 1 % 1σ (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49 шт., EE 5 мм)

Особенности загрузки
образцов

- Загрузочный шлюз с магнитным манипулятором
- Возможность автоматической загрузки с помощью вакуумных кластерных систем Picoplatform™ 200 или Picoplatform™ 300
- Кластерные системы поддерживают загрузку из кассеты в кассету и использование унифицированных боксов для хранения и перевозки полупроводниковых пластин
- Загрузка в шкаф N2.

Особенности прекурсоров

- Жидкостные, твердые вещества, газ, озон, плазма
- Датчики уровня, функции очистки и заправки
- До 12 источников с 6 отдельными вводами.




Размеры и тип пластин : Одиночные пластины до 300 мм
Температура обработки: от 50 до 500°C
Технологические процессы: Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы
Прекурсоры: До 12 источников с 6 отдельными вводами