Установка ALD P-300S Picosun длч производства компонентов ИМС

Установка атомно-слоевого осаждения P-300S Picosun для крупномаштабного производства

Установка атомно-слоевого осаждения P-300 S Picosun предназначена для производства компонентов, используемых на ИМС. Оборудование ALD P-300 S Picosun подойдет для изготовления устройств памяти, микропроцессоров, жестких дисков. Данную установку ALD можно также использовать для производства МЭМС, например, для изготовления печатающих головок, микрофонов, датчиков.

Отличительной особенностью оборудования ALD PICOSUN™ P-300 S является возможность использования данного оборудования для крупномасштабного производства. Это новейшая разработка в мире применения технологии ALD для промышленности.

Основные преимущества установки ALD P-300S Picosun

Основное преимущество установки P-300 S Picosun - возможность автоматически обрабатывать одиночные пластины на базе стандартных вакуумных кластерных платформ. Установка ALD P-300S прошла сертификацию в соответствии с требованиями SEMI S2/S8. С помощью протокола SECS/GEM она интегрируется в систему автоматизации предприятия.

Что касается качества, оборудование ALD Picosun удовлетворяют строжайшим требованиям, установленным для производства полупроводников. Это стало возможным благодаря внедрению разработанной и запатентованной компанией Picosun особой конструкции камеры c горячими стенками и полностью раздельными вводами.

Данная технология обеспечивает высокий выход готовой продукции и отличное качество пленок. Пленки, полученные с помощью технологии ALD, характеризуется низким уровнем постпроцессных частиц, отличными электрическими и оптическими характеристиками.

Технология Picoflow™, разработанная Picosun для улучшения процессов диффузии, обеспечивает высокую конформность покрытия даже на образцах с большим аспектным соотношением.

Технические характеристики установки ALD P-300S Picosun