пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Установка ALD R-200 Advanced Picosun с полуавтоматической загрузкой

Производитель:
Picosun Flag

Установкви  R-200 Advanced ALD PICOSUN разработаны для проведения НИОКР в различных областях исследований (компоненты на интегральных микросхемах, микроэлектромеханические устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Документация
  • Оплата и доставка

Описание  R-200 Advanced ALD Picosun

Установка R-200 Advanced  Picosun - это установка атомно-слоевого осаждения, АСО (аtomic layer deposition, ALD), предназначенная для проведения НИОКР в различных областях исследований (компоненты на интегральных микросхемах, микроэлектромеханические устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).

Оборудование R-серии Picosun имеет ручную или полуавтоматическую обработку. Позволяет производить напыление пленок АСО на поверхности со сложной структурой, а также на образцы с высоким аспектным соотношением размеров и на наночастицы. 
Предназначена для одиночной обработки подложек или для работы с мини-партиями. Используются подложки до 200 мм.

Особенности и преимущества

  • Гибкая конструкция АСО-установок Picosun обеспечивает получение тонких пленок самого высокого качества, а исключительная универсальность систем позволяет использовать их для удовлетворения потребностей и решения задач в будущем;

  • Запатентованная конструкция камеры c горячими стенками с раздельными вводами и контрольными приборами обеспечивает работу с различного рода материалами: пластины, 3D-объекты, наночастицы, порошки;

  • Пленки, нанесенные с помощью оборудования Picosun, характеризуются отсутствием примесных частиц и исключительной однородностью даже на сложных пористых подложках и подложках с чрезвычайно большим соотношением сторон, образцах с наночастицами;

  • Превосходная однородность пленок даже на самых сложных пористых подложках достигается благодаря запатентованной технологии Picoflow ™;

  • Системы Picosun ™ серии R оснащены высоко функциональными и легко заменяемыми источниками прекурсоров для жидких, газообразных и твердых химикатов;

  • Интеграция с перчаточными боксами, системами сверхвысокого вакуума, ручными и автоматизированными загрузчиками, кластерным оборудованием, камерами для порошка, камерами с рулонной подачей и разнообразными аналитическими системами обеспечивает гибкое и эффективное проведение исследовательских работ и надежные результаты независимо от области текущих или будущих научных интересов.

Технические характеристики R-200 Advanced Picosun:

Количество вводов прекурсоров/  реагенты 

- до 12 источников с 6 отдельными вводами (7 при использовании плазмы);
- жидкостные, твердые, газообразные, озон, плазма.

Тип и размер подложек

- 50 – 200 мм одиночные пластины;
- макс. 150 мм пластины в вертикально-расположенной кассете по 5 -15 штук (в зависимости от процесса);
- спец. опция: макс. 200 мм пластины в вертикально-расположенной кассете по 5 -15 штук (в зависимости от процесса);
- кремниевые пластины для  размером 156 мм x 156 мм;
- трехмерные объекты;
- порошки и частицы;
- рулонная подача образцов, макс. ширина 70 мм;
- образцы с глухими и сквозными порами, образцы с высоким аспектным отношением.

Загрузка в реакционную камеру

- пневматический загрузчик (ручная загрузка);
- загрузочный шлюз с магнитным манипулятором;
- полуавтоматическая загрузка с помощью роботизированного загрузчика;
- покассетная загрузка в кластерных инструментах.


 Рабочая температура

- 50 - 500 °C, плазма 450 °C (650 °C с подогреваемым держателем — по заказу).

  Технологические процессы
 Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, AlN, TiN, металлы (Pt или Ir)
  Доп.оборудование

- кластерное оборудование,

- усилитель диффузии Picoflow,

- камера с рулонной подачей,

- анализатор остаточных газов (RGA) на основе квадрупольного масс-спектрометра, совместимость со сверхвысоким вакуумом,

- генератор N2,

- газовый скруббер,

- изготовление конструкции по ТЗ заказчика,

- интеграция с перчаточным боксом для загрузки из инертной атмосферы.



Похожие товары
Обратите внимание на похожие модели и аналоги, как альтернативу вашему выбору.