Соединяя
науку и технологии office@sernia.ru
+7 (495) 204-13-17
8 (800) 301-13-17

Trion - оборудование для травления и осаждения тонких пленок

Выбрать Производителя
Выбрать Отрасль
Выбрать Технологию
Количество на странице:
20
Оборудование Trion

Trion—плазмохимическое оборудование для травления и осаждения материалов


Компания Trion — производитель систем плазмохимического травления и осаждения материалов для производства микроэлектроники. Для травления и осаждения материалов используются следующие технологии:
  • Reactive Ion Etch (RIE, реактивное ионное травление)—технология травления, при котором химическиактивная плазма используется для удаления материала с подложки.
  • Inductively coupled plasma (ICP, индукти́вно-свя́занная пла́зма) — плазма, образующаяся внутри разрядной камеры или иного плазменного реактора при приложении высокочастотного переменного магнитного поля.
  • Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD, плазменно-химическое осаждение из газовой фазы)—процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы.

Как заказать оборудование для плазмохимического травления и осаждениятонких плёнок:

На ваши вопросы по оборудованию для плазмохимического травления и осаждения тонких плёнок ответит Дубровинский Вячеслав Юрьевич, е-mail:dv@sernia.ru, контактный телефон+7 495 932 92 42.