Что такое плазма?
Плазма содержит положительные ионы, электроны, атомы или молекулы нейтрального газа, УФ-излучение, а также возбужденные газовые атомы и молекулы, которые могут переносить большое количество внутренней энергии. Выбирая газовую смесь, мощность, давление и т. д., мы можем совершенно точно настроить или определить влияние плазмы на поверхность. Плазменную обработку проводят в вакуумной камере (имеются модели, где обработка поверхности производится на воздухе). Газ подается при низком давлении перед подачей энергии в виде электрической мощности. Эти типы плазмы фактически находятся при низкой температуре, это означает, что можно легко обрабатывать термочувствительные материалы.
Плазменная очистка
Выбирая правильные параметры обработки, мы можем делать плазменную очистку, плазменную активацию поверхности, плазменное осаждение и плазменное травление. Плазменная очистка кислородной плазмой устраняет природные и технические масла и жир в наномасштабе и уменьшает загрязнение до 6 раз по сравнению с традиционными мокрыми методами очистки. Плазменная очистка создает поверхность, готовую для процессов склеивания или дальнейшей обработки, без каких-либо вредных отходов.
Ультрафиолетовый свет, генерируемый в плазме, очень эффективен в разрушении органических связей поверхностных загрязнителей. Это помогает в разложении связей масел и смазки. Второе очищающее действие осуществляется высокоэнергитичными формами кислорода. Эти формы реагируют с органическими загрязнителями, образуя главным образом воду и углекислый газ, которые непрерывно откачиваются из камеры.
Сравнение плазменной и жидкостной очистки
| Плазменная очистка | Очистка жидкой химией |
|---|---|
| Процессы точно контролируются мощностью, давлением, типом газа, временем обработки и т. д. |
Процессы очень чувствительны к времени обработки и химическим концентрациям |
|
Нет остатков органики |
Надежность зависит от удовлетворительной нейтрализации остатков, удаление которых может потребовать дополнительных этапов обработки |
| «Отходы» безвредны и всегда выделяются в газообразной форме, которые могут выбрасываться непосредственно в атмосферу |
Высокий объем жидких отходов, что требует дорогостоящей переработки и подлежит жесткому контролю |
|
Большинство используемых газов не токсичны |
Большинство используемых растворителей и кислот чрезвычайно опасны. |
Плазменная очистка в процессе производства печатных плат
Плазменная очистка - проверенный, эффективный, экономичный и экологически безопасный метод точной подготовки поверхности, отвечающий потребностям производства печатных плат (PCB) и сборки электронных компонентов. Это хорошо зарекомендовавший себя метод удаления остатков после лазерной пробивки отверстий.
Производитель печатных плат может легко и эффективно внедрять наши удобные и экономически эффективные процессы очистки. Машины для плазменной очистки Henniker имеют несколько загрузочных стеллажей, которые обеспечивают отличную однородность по всей печатной плате, между печатными платами и от процесса к процессу.
- Плазменная очистка для производства печатных плат
- Плазменная очистка печатных плат до склеивания
- Плазменная активация печатных плат до заливки (герметика) и инкапсуляции
- Травление эпоксидных, гибких и тефлоновых печатных плат
- Деокисление золотых контактов.
Плазменная очистка перед разваркой проводов
Плазменная очистка перед разваркой проводов эффективно удаляет органические загрязнения 
и тонкие оксидные слои при высокой пропускной способности, быстро, эффективно и воспроизводимо, значительно повышая выход и снижая количество неисправностей.
Во многих областях применения электроники существует жесткое требование для ультрачистых контактных площадок перед склеиванием проводов. Это особенно справедливо, например, при изготовлении полупроводников и космических спутников. Засорение контактных площадок проводов приводит к плохой прочности при растяжении и однородности прочности. Плазменная очистка может быть применена в виде решения, например, перед инкапсуляцией, или как этап пакетной обработки с индивидуальными механизмами загрузочной рамки.
Плазменная очистка для разварки проводов
- Пользовательские схемы загрузки рамок с образцами
- Плазменная очистка с использованием отдельных газов и смесей газов
- Повышенная прочность сцепления
- Широкий выбор размеров камер плазменной очистки
Плазменные системы Henniker
В ассортименте Henniker имеются плазменные системы с различными вариантами, например, с одним или несколькими впускными отверстиями для газа, несколькими загрузочными лотками и вращающимися барабанными камерами, что делает их универсальными для многих требований. Наши специалисты имеют многолетний опыт работы с различными приложениями и системными опциями, а также помогут вам сконфигурировать систему для ваших конкретных потребностей. Если вы ищете надежную, проверенную плазменную систему, наш ассортимент должен стать отличной отправной точкой.
Варианты конфигурации:
- Объем камеры плазменной очистки лабораторного / технологического масштаба, начиная с диаметра 100 мм
- Очистители плазмы промышленного масштаба для больших деталей / высокой производительности
- Несколько конфигураций полок для образцов
- Простое управление программным обеспечением
- Непрерывно переменная мощность.
Системы плазменной очистки для микроскопии
