Использование технологии Picoplasma™ позволит получать графен в промышленных масштабах
В чем трудность получения графена?
Графен является одним из наиболее активно исследуемых материалов с потенциалом для изготовления полностью нового поколения устройств оптики и электроники. Однако его производство в больших масштабах сопряжено с большими трудностями, а именно: требуются высокие рабочие температуры.
Что предлагает компания Picosun?
Технология Picosun плазменно-стимулированного АСО (ПАСО) предлагает решение данной проблемы. Возможность осаждения больших листов высококачественного графена при 400 oC было показано в одном из университетов Китая с помощью оборудования Picosun. Работа была выполнена исследовательской группой по руководством проф. Вей Рен и проф. Зуо-Гуанг Йе в Университете Сиан Хиаотонг с помощью установки АСО PICOSUN™, оборудованной источником удаленной плазмы Picoplasma™.
Picoplasma Picosun - источник плазмы для оборудования АСО
Конструкция источника плазмы Picoplasma™ имеет все критические элементы, необходимые для успешного промышленного производства графена на таких чувствительных подложках, как тонкая металлическая фольга.
Генерируемая индуктивно-связанная плазма позволяет расположить источник плазмы на большом расстоянии от подложки, что позволяет избежать разрушения подложки ионами. Подобное разрушение всегда присутствует для емкостно-связанных источников плазмы, в которых источник плазмы находится близко к подложке, которая находится в условиях бомбардировки высокоэнергетичными ионами.
В системе Picosun Picoplasma™ поверхность подложки обрабатывается интенсивным потоком сильно-реагирующих радикалов, позволяя тем самым проводить напыления пленок АСО при достаточно низких температурах для очень чувствительных образцов, таких как полимерные материалы и материалы на основе бумаги.
В чем преимущества источника Picoplasma?
-
Дополнительный преимущества конструкции удаленного генератора плазмы Picosun включают в себя возможность осаждения проводящих материалов без риска закорачивания или необходимости использования затеняющей заземляющей сетки между источником плазмы и образцом.
-
Удаленная конструкция и защищающий газовый поток в промежуточном пространстве между источником и подложкой не только исключают агрессивные ионы, но и исключают возможность попадания паров прекурсора в генератор плазмы. Таким образом нет необходимости разбирать систему для ее очистки.
-
Инновационная конструкция и улучшенное программное обеспечение также позволяют проводить как ПАСО, так и АСО процессы во время одного цикла осаждения без каких-либо изменений в аппаратной части системы.
Графен - материал будущего
Высочайшие электро- и теплопроводность графена, его высокая оптическая прозрачность, превосходная механическая прочность, высокая пластичность и гибкость позволяют использовать графен в таких приложениях, как гибкие тонкопленочные дисплеи, сенсорные панели и сенсоры, микроэлектроника, компоненты ИС. Конечные пользователи для подобных устройств могут принадлежать различным областям промышленности, начиная от потребительской электроники, одежды и производителей автомобилей и заканчивая производителями диагностического медицинского оборудования и оборудования для работы в космосе.
Из-за своих исключительных физических и механических свойств, графен открывает новый мир приложений в будущем промышленностей электроники и оптики. Поскольку технология АСО является хорошо известной и отработанной в полупроводниковой промышленности, освоение АСО при промышленном производстве графена поможет реализовать следующее поколение микроэлектронных устройств.
Читать подробнее о технологии АСО>>
Посмотреть оборудование Picosun для АСО>>