Соединяя науку и технологии office@sernia.ru
пн-пт 10:00 – 19:00
сб-вс выходные
+7 (495) 204-13-17
8 (800) 301-13-17

Sirus T2 - оборудование Trion для плазмохимического травления

Оборудование Trion для плазмохимического травления 

Компания Trion, производитель систем плазмохимического травления и осаждения тонких пленок, разработала новую лабораторную, настольную модель для травления диэлектриков - Sirus T2.

Работа системы основана на технологии реактивно-ионного травления (Reactive Ion Etch, RIE) -  технологии травления, где для удаления материала с подложки используется химически активная плазма. Плазма создаётся при низком давлении при помощи газового разряда. Поступающие из плазмы ионы ускоряются за счёт разности потенциалов между ней и подложкой. Совместное действие химических реакций, ионного распыления и ионной активации приводит к разрушению материала подложки, образованию летучих соединений и десорбции их с поверхности.



SIRUS T2 - настольная система реактивно-ионного плазмохимического травления (RIE)


Sirus T2 (базовая модель) - система плазмохимического реактивно-ионного травления (RIE) на основе фторсодержащих газов.

Система предназначена для травления диэлектриков и тонких пленок. Малые размеры и надежная конструкция делают Sirus T2 незаменимой для лабораторных условий.

Система может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода.



СОСТАВ СИСТЕМЫ:

  • Реактор с нижним электродом ⍉ 200 (максимальный размер образца - ⍉ 200).
  • Система управления на основе ПК с сенсорным управлением.Два контроллера потока газов (опционально – до 4).
  • Автоматическое согласующее устройство с ВЧ генератором 13,56 МГц 600Вт.
  • Система аварийного отключения
  • Автоматическая система управления давлением.
  • Турбомолекулярный насос 170 л/с.
  • Форвакуумный насос 660 л/мин.

ТРЕБОВАНИЯ К ПОДАЧЕ ГАЗОВ: 

Пользователь должен обеспечить подачу технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ. 

  • КОЛИЧЕСТВО ГАЗОВ: определяется технологическими процессами
  • ДАВЛЕНИИ В ЛИНИИ: 1-3 атм.
  • ТРУБОПРОВОД: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой
  • ТИП СОЕДИНЕНИЯ: VCR.