Компания Trion выпустила новую кластерную систему с загрузочным шлюзом, предназначенную для проведения процессов PECVD/RIE/ICP в научно-исследовательских лабораториях и небольших современных производствах, работающие с пластинами (Ø≤300 мм).
Система состоит из центрального вакуумного загрузчика, к которому могут подключаться до четырех реакторов.
Система состоит из центрального вакуумного загрузчика, к которому могут подключаться до четырех реакторов.
- Реакторы могут работать как в связке с центральным загрузчиком, так и автономно.
- Оптимальная модульная конструкция минимизирует занимаемое рабочее пространство.
- Высокая плотность плазмы, позволяющая увеличить анизотропию и скорость травления.
- Электростатический держатель понижает температуру пластины во время травления, благодаря использованию системы охлаждения (на базе гелия) с обратной стороны пластины
| Травление | Осаждение | |
| Газ | Cl2, BCl3, SiCl4, HBr, NF3, и т.д | 100% Силан, NH3, TeOS, диэтилсилан, N2O, O2, N2, триметилсилан, CH4 |
| Материал | AlGaAs, Au, С, Cr, Cu, GaN, GaAs, InGaN, InP, PolySi, Pt, Si, SiC , Ti, Pr | оксиды, оксинитриды, нитриды, аморфный кремний, карбид кремния. |