Соединяя науку и технологии office@sernia.ru
пн-пт 10:00 – 19:00
сб-вс выходные
+7 (495) 204 13 17
8 (800) 301 13 17

Как производить травление и осаждение в одной установке?

В 2018 году компания Trion Technology - американский производитель оборудования для травления и осаждения материалов, существующий на рынке высокотехнологичного оборудования с 1989 года  - разработала новую установку травления и осаждения материалов - Trion Minilock Duo.
В данной статье мы расскажем об особенностях данной системы.

Trion Minilock Duo - 2 процесса в одной установке

Отличительной особенностью новой установки Minilock Duo является то, что в системе возможно подключать два независимых технологических модуля к общему вакуумному загрузочному шлюзу, таким образом предоставляя возможность осуществлять разные производственные процессы - травление и осаждение материалов.

Особенности установок Minilock Duo

Вакуумный загрузочный шлюз представляет собой отдельную вакуумную камеру для загрузки образцов. Шлюз отделен от реакционных камер вакуумными затворами, что позволяет им всегда оставаться под вакуумом, при проведении процессов в разных камерах образцы не контактируют с атмосферой, что увеличивает исследовательские и технологические возможности.

Перемещение образца между реакционными камерами осуществляется с помощью роботизированного манипулятора с прямым перегрузочным механизмом, что обеспечивает надежную и точную загрузку.

Модули для подключения

Система Minilock Duo позволяет комбинировать любые из перечисленных модулей:

  • PR Strip - удаление фоторезиста;
  • RIE (reactive ion etching) - реактивное ионное травление (РИТ),
  • PE (plasma etch) - плазмохимическое травление (ПХТ);
  • ICP (Inductively coupled plasma) - индуктивно-связанная плазма (ИСП). Плазма, образующаяся внутри разрядной камеры или иного плазменного реактора при приложении высокочастотного переменного магнитного поля;
  • DRIE (deep reactive ion etching (DRIE) — глубинное реактивное ионное травле­ние или глубинное реактивное ионно-плазменное травле­ние;
  • PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) - усиленный плазмой CVD-процесс, который использует плазму для разложения прекурсоров, активации поверхности подложки и ионного ассистирования. С помощью этого метода успешно получают алмазные пленки;
  • HDCVD (high density CVD) - осаждение из газовой фазы высокой плотности,
  • PVD (physical vapour deposition) -  Вакуумное напыление  напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы).

О компании Trion Technology

Компания Trion Technology — производитель систем плазмохимического травления и осаждения, основанная в 1989 году. Компанией поставлено и установлено более 500 систем по всему миру. Исследовательская деятельность компании направлена на полную проверку оборудования Trion в реальных условиях производства, предоставления решения проблемы пользователя, разработку новых технологических процессов для производства.