пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

Новая система плазменного травления и осаждения

photo
Компания Trion выпустила новую кластерную систему с загрузочным шлюзом, предназначенную для проведения процессов PECVD/RIE/ICP в научно-исследовательских лабораториях и небольших современных производствах, работающие с пластинами (Ø≤300 мм).

Система состоит из центрального вакуумного загрузчика, к которому могут подключаться до четырех реакторов.
  • Реакторы могут работать как в связке с центральным загрузчиком, так и автономно.
  • Оптимальная модульная конструкция минимизирует занимаемое рабочее пространство.
  • Высокая плотность плазмы, позволяющая увеличить анизотропию и скорость травления.
  • Электростатический держатель понижает температуру пластины во время травления, благодаря использованию системы охлаждения (на базе гелия) с обратной стороны пластины
Травление Осаждение
Газ Cl2, BCl3, SiCl4, HBr, NF3, и т.д 100% Силан, NH3, TeOS, диэтилсилан, N2O, O2, N2, триметилсилан, CH4
Материал AlGaAs, Au, С, Cr, Cu, GaN, GaAs, InGaN, InP, PolySi, Pt, Si, SiC , Ti, Pr оксиды, оксинитриды, нитриды, аморфный кремний, карбид кремния.