пн-пт  10:00 - 19:00

Основы технологии атомно-слоевого осаждения компании Picosun

предыдущий следующий
27 октября 2016
photo
Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun

Семинар "Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun"

Применение метода АСО (ALD) при изготовлении изделий микроэлектроники. Обзор оборудования АСО Picosun

Дата:
27 октября 2016 г.
Организатор: Национальный исследовательский университет МИЭТ
Место проведения: Москва, Зеленоград, ул. Солнечная аллея, д.6

Уважаемые коллеги!

Приглашаем Вас принять участие в семинаре, посвященном методам атомно-слоевого осаждения при изготовлении изделий микроэлектроники на примере работы с оборудованием производства Picosun (Финляндия).

Регистрация на семинар

Для участия в семинаре необходима предварительная регистрация. Заявки на участие отправляйте на эл.почту nd@sernia.ru.
В заявке необходимо указать:
  • ФИО;
  • название организации;
  • должность.

ПРОГРАММА НА 27 ОКТЯБРЯ 2016 Г.

11.00 - 13.00

Доклад представителя компании Picosun Алексея Веселова: «Основы технологии атомно-слоевого осаждения (АСО) компании Picosun и ее применение при изготовлении изделий микроэлектроники. Обзор оборудования АСО Picosun»

13.00 - 13.30

Перерыв

13.30 - 15.00

Практическая часть: осмотр и пробные напыления покрытий на установленной в МИЭТ системе атомно-слоевого осаждения Picosun.