Вакуумная кластерная ALD установка Picoplatform Picosun

Вакуумные кластерные инструменты PICOPLATFORM™

Вакуумные кластерные инструменты PICOPLATFORM™ компании Picosun сочетают в себе уникальную масштабируемость и модульность всех инструментов АСО PICOSUN™. Кластерная система оборудована полностью стандартизированными решениями по автоматизации для промышленных производств.
Система PICOPLATFORM™ состоит из нескольких реакционных камер для АСО, собранных вокруг центрального вакуумного роботизированного модуля загрузки и контроля, который позволяет осуществлять автоматическую загрузку/разгрузку, не нарушая при этом вакуумирование реакционных камер АСО.
Также возможно подключение кластера к модулям, осуществляющим другие технологические процессы, такими как системы предварительной обработки, пост-обработки и напыления с использованием других технологических процессов.
В зависимости от требований заказчика, инструменты серии PICOPLATFORM™ подразделяются на: PICOPLATFORM™ 200 (для проведения исследований и разработок) и PICOPLATFORM™ 300 (для полностью автоматизированного промышленного производства с высокой производительностью).

Особенности системы:

• Многофункциональная, интегрированная кластерная АСО система, включающая в себя несколько отдельных реакторов PICOSUN™, объединенных с помощью вакуумного центрального узла манипулятора; полностью автоматическая покассетная загрузка.
• Несколько различных одновременных АСО процессов с различными прекурсорами (оксиды, нитриды на металлических поверхностях, полимерах и др.).
• Автоматическое перемещение подложек между отдельными реакционными камерами без нарушения условий вакуума между различными АСО процессами.
• Совместимость со сверхвысоким вакуумом и хлоридными процессами, нагрев источника до 300 oC, в одном кластере АСО и ПАСО процессы, устройство улучшения диффузии и система приостановки потока «stop-flow» для нанесения пленок на пластины со сложной геометрией поверхностей. Возможность интеграции других модулей для обработки, например предварительной очистки, травления, PVD/CVD.

Области использования:

• оксиды, нитриды и металлы для производства интегральных схем;
• оксидные плёнки разделителей;
• стэковые оксидные пленки диэлектриков (InterPoly Dielectric, IPD);
• туннелирующие плёнки оксидов;
• блокирующие плёнки оксидов;
• пассивирующие плёнки;
• плёнки, заполняющие зазоры;
• герметизирующие слои;
• барьерные плёнки меди и затравочные слои.

PICOPLATFORM™ 200

Кластер состоит из нескольких отдельных реакционных камер для АСО, интегрированных вокруг центрального модуля загрузки и контроля, основанного на вакуумном роботизированном манипуляторе Brooks MX400TM или Brooks MX700TM
Кластер PICOPLATFORM™ 200 может быть оборудован загрузочным шлюзом для работы с одиночными подложками или автоматизированным покассетным загрузчиком, не нарушая при этом вакуума реакционных камер АСО. Также возможно подключение кластера к модулям, осуществляющим другие технологические процессы осаждения, и к системам предварительной обработки и постобработки.
Cистема PICOPLATFORM™ 200 совместима с инструментами АСО PICOSUNTM R-200 Advanced, может быть использована как промежуточный инструмент для 100/200 мм подложек.

PICOPLATFORM™ 300

Система состоит из процессных модулей, размещенных вокруг центрального вакуумного роботизированного блока Brooks Marathon 2™, и загрузочной станции с несколькими блоками типа Front Opening Unified Pod (FOUP). Данная станция предназначена для автоматизированного переноса пластин между отдельными блоками FOUP и модулями кластерного инструмента без нарушения вакуума.
Система может быть дополнена в любое время путем интеграции с модулями, в которых осуществляются другие технологические процессы, а также предварительная и пост-обработка.
Cистема PICOPLATFORM™ 300 совместима с инструментами АСО PICOSUN™ P-300, может быть использована как промежуточный инструмент для 200/300-мм подложек. PICOPLATFORMTM 300 частично совместима со стандартом SEMI S2.