Установка плазмохимического травления Phantom III Trion
Phantom III Trion — установка плазмохимического травления (RIE; RIE+ICP) для лабораторий. Установка может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода. Опционально доступен ICP (индуктивно-связанная плазма) реактор.Технологические процессы
-
RIE (Reactive Ion Etch — реактивное ионное травление) — технология травления, используемая в микроэлектронике. Химически активная плазма используется для удаления материала с подложки. Плазма создаётся при низком давлении при помощи газового разряда. Поступающие из плазмы ионы ускоряются за счёт разности потенциалов между ней и подложкой. Совместное действие химических реакций, ионного распыления и ионной активации приводит к разрушению материала подложки, образованию летучих соединений и десорбции их с поверхности.
-
ICP (inductively coupled plasma - индуктивно-связанная плазма) — плазма, образующаяся внутри разрядной камеры или иного плазменного реактора при приложении высокочастотного переменного магнитного поля. ICP зажигается и поддерживается за счёт циклических индуцированных вихрей электрического тока свободных электронов (и ионов) в плазме. Для возбуждения ICP обычно используется переменное электромагнитное поле на частоте 1 – 100 МГц.
Спецификация Phantom III Trion:
Вакуумная система |
Турбомолекулярный насос 300 л/с; |
Реакционная камера |
Стандартная - RIE; |
ВЧ генератор |
13,56 МГц |
Держатель |
200 или 300 мм (опционально изготавливается крепление для кусочков); |
Детектор конечной точки (End-Point) |
Интерферометр; |
Система управления |
ПО (разработано Trion Technology) на базе Windows; |
Охлаждение реактора (опционально)(требуется поддержание температуры в районе 18-20 oС) |
Циркуляционный чиллер Polyscience 6700 |
Термостабилизация нижнего электрода (опционально) |
Термостабилизация в диапазоне от -20 до +150 (больший диапазон по запросу) |
Максимальное количество газов |
До 12 |
Процессы |
Возможна поставка системы с готовыми процессами по запросу |
Требования к подаче технологических газов
Пользователь должен обеспечить подачу технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ. Количество газов: определяется технологическими процессами. Давление в линии: 1-3 атм. Трубопровод: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой. Тип соединения: VCR.
Заказ товаров
Сделать заказ товара можно несколькими способами:
- Отправьте запрос на сайте через кнопку «ОТПРАВИТЬ ЗАПРОС НА КП» или «ЗАДАТЬ ВОПРОС»;
- Отправьте запрос на e-mail: info@sernia.ru с указанием конкретного товара или технических характеристик возможного прибора;
- Позвоните по телефону +7 (495) 204-13-17 или 8 (800) 301-13-17 (бесплатный для регионов). Секретарь соединит Вас с менеджером, который поможет сделать заказ.
Оплата товара
Оплата товара производится только по безналичному расчету. Цены в счете указываются с НДС. Условия оплаты: 100% предоплата или 50/50% (предварительно обговариваются с клиентом, зависят от условий поставки товаров).
Доставка товара
Сроки поставки товара обговариваются на этапе заказа товара. Доставка мелкогабаритного товара в пределах Москвы осуществляется собственной курьерской службой. Сроки доставки товаров из наличия - 2-3 дня после оплаты товара.
Доставка товара в регионы осуществляется службой MAJOR EXRESS. Отследить доставку товара можно по номеру накладной на сайте компании.