Соединяя науку и технологии office@sernia.ru
пн-пт 10:00 – 19:00
сб-вс выходные
+7 (495) 204-13-17
8 (800) 301-13-17

Установка ALD P-300BV Picosun

Цена: По запросу
Производитель: Picosun Flag

Установка ALD P-300BV Picosun  - разработка для производства светодиодов, дискретных устройств и различных устройств MEMS, например печатающих головок, датчиков и микрофонов.


Скачать документацию Задать вопрос
  • Описание
  • Характеристики
  • Документация

Установки атомно-слоевого осаждения Picosun

Установка P-300BV Picosun - это установка атомно-слоевого осаждения для применения в промышленности.

ALD, atomic layer deposition (атомно-слоевое осаждение, АСО) — это химический метод нанесения сверхтонких плёнок из газовой фазы. Рост плёнок осуществляется за счет последовательного нанесения атомных слоев, обеспечивая точный контроль толщины плёнки и ее химический состав.

На сегодняшний день технология ALD (АСО) является наиболее перспективной, так как позволяет наносить сверхтонкие покрытия практически на любые типы поверхностей.

Основные сведения об установке ALD PICOSUN P-300BV

Установка ALD PICOSUN P-300BV представляет собой ультрасовременное промышленное оборудование для производства светодиодов, дискретных устройств и устройств MEMS, таких как печатающие головки, датчики и микрофоны.

Система предназначена для полуавтоматической обработки партий изделий. Инструмент оптимизирован для быстрого серийного производства и может быть интегрирован в автоматизацию производства с помощью опции SECS / GEM.

Вакуумная система загрузки с опцией нагрева позволяет работать с чувствительными субстратами и осаждать такие материалы, как нитриды металлов.

PICOSUN P-300BV является одной из лучших систем ALD для инновационных отраслей промышленности.

Технические особенности установки ALD P-300BV Picosun

Типичный размер и тип подложки

- Пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.;
- Подложки, отличные от пластин;
- Образцы с большим аспектным отношением. 

 
Температура
 

50 – 450 °C

 
Стандартные процессы

- Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы;
- Серийное производство доступно с периодом цикла до однозначных секунд;
- До <1% 1σ неравномерность в партии (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49 точек, 5мм EE).

Загрузка субстрата

- Полуавтоматическая загрузка с вертикальными погрузчиками (один или два погрузчика);
- Дополнительный обогрев при загрузке образца.

 
Прекурсоры

- Жидкостные, твердые вещества, газ, озон;
- До 8 источников с 4 отдельными вводами;
- Датчики уровня, очистка и пополнение.



Размер и тип подложки: Пластины 200/150/100 мм в кассетах по 25/50/75 шт.; Подложки, отличные от пластин; Образцы с большим аспектным отношением.
Температура обработки: 50 – 450°C
Технологические процессы: Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2, AlN, TiN и металлы
Загрузка подложки: Полуавтоматическая загрузка с помощью вертикальных загрузчиков (один или два) Дополнительный обогрев загрузочного шлюза
Прекурсоры: Жидкостные, твердые вещества, газ, озон; До 8 источников с 4 отдельными вводами