пн-пт  10:00 - 19:00
г. Москва
+7 (495) 204 13 17
г. Санкт-Петербург
+7 (812) 509 20 91

1020 Plasma Cleaner Fischione - установка плазменной очистки

Производитель:
Fischione Instruments, Inc.
Гарантия:
24 месяца

Эффективная очистка образцов для электронной микроскопии от органического углерода

Задать вопрос
Цена с НДС:
По запросу
Доставка по всей России бесплатно
Подробнее о доставке здесь
  • Детальное описание
  • Тех.характеристики
  • Оплата и доставка

Основные сведения об установке плазменной очистки 1020 Fischione

1020 Plasma Cleaner Fischione предназначена для плазменной очистки образцов непосредственно перед загрузкой в электронный микроскоп, удаления углеродосодержащих частиц для предотвращения их осаждения на поверхность образца в процессе формирования изображений или аналитических исследований. Система поддерживает следующие процессы:

  • Очистка образцов для просвечивающей и сканирующей электронной микроскопии одновременно с соответствующими держателями
  • Повышение качества изображений и эффективности аналитических исследований
  • Удаление ранее возникших углеродосодержащих загрязнений
  • Предотвращение последующих загрязнений
  • Отсутствие травления или осаждения материалов
  • Хранение в чистом вакууме

В установке плазменной очистки 1020 используется неравновесная высокочастотная плазма. Она образуется в результате взаимодействия свободных электронов, разогнанных с помощью осциллирующего электромагнитного поля до высоких скоростей, с атомами газа. Ионы плазмы, которые достигают поверхности образца, имеют энергию менее 12 эВ, что позволяет избежать заметного воздействия ионов на исследуемый материал. 

Очистка происходит в ходе реактивного плазменного травления, когда компоненты рабочего газа вступают в химическую реакцию с углеродосодержащими веществами на образце или держателе.  

Для оптимальной очистки компания Fischione рекомендует использовать газовую смесь, состоящую из 25% кислорода и 75% аргона. Кислородная плазма обладает высокой эффективностью устранения органических (углеводородных) загрязнений. В результате реакции образуются H2O, CO, и CO2, которые откачиваются из камеры вакуумной системой.

Преимущества установки плазменной очистки 1020 Fischione

  • Одновременная очистка образца и держателя
  • Очистка даже сильно загрязненных образцов за 2 минуты и менее
  • Отсутствие повреждений структуры и состава образца
  • Безмасляная вакуумная система
  • Управление с помощью передней панели с удобным интерфейсом
  • Подходит для боковых держателей образцов всех коммерчески доступных просвечивающих электронных микроскопов (ПЭМ) и сканирующих просвечивающих электронных микроскопов (СПЭМ)
  • Применяется в сканирующей электронной микроскопии (СЭМ) и других методах исследования поверхностей
  • Удобна для откачки воздуха из вакуумных контейнеров, предназначенных для хранения 

Особенности установки плазменной очистки 1020 Fischione

  • Совместная очистка образцов и держателей для электронной микроскопии 

Система плазменной очистки позволяет в автоматическом режиме быстро удалить органические (углеводородные) загрязнения с образцов и держателей, использующихся в электронной микроскопии. В ходе реактивного травления низкоэнергетическая плазма обеспечивает очистку образцов без негативного воздействия на их элементный состав или структуру. Управление системой плазменной очистки осуществляется с помощью эргономичной передней панели. Вакуум в камере создается эффективной безмасляной вакуумной системой. 

  • Повышение качества изображений и эффективности анализа 

Очистка происходит в ходе реактивного плазменного травления исключительно путем химической реакции компонентов рабочего газа с углеродосодержащими веществами на образце или держателе. Неравновесная высокочастотная плазма генерируется из газовой смеси в составе 25% кислорода и 75% аргона. Свободные электроны, разогнанные до высоких скоростей с помощью осциллирующего электромагнитного поля (13,56 МГц), взаимодействуют с атомами газа, в результате чего образуется плазма. Ионы плазмы, которые достигают поверхности образца, имеют энергию менее 12 эВ, что позволяет избежать негативного воздействия на исследуемый материал. 

Современные электронные микроскопы обладают источниками с высокой интенсивностью эмиссии, использование которых нередко приводит к образованию загрязнений на поверхности не прошедших предварительную плазменную очистку образцов. Наличие системы плазменной очистки дает уверенность в том, что углеродосодержащие загрязнения не повлияют на качество изображений и результаты исследований, даже в случае продолжительного рентгеноспектрального микроанализа при малых токах зонда. 

  • Стандартные и специализированные держатели образцов 

Система плазменной очистки позволяет работать с боковыми держателями образцов всех коммерчески доступных просвечивающих электронных микроскопов, а также обеспечивает подготовку образцов для сканирующей электронной микроскопии, в том числе и макрообразцов. Помимо этого, в составе системы имеется специальный порт, который дает возможность обработки образцов, размещенных на углеродных решетках.

Технические характеристики установки плазменной очистки 1020 Fischione

Система формирования плазмы

·         Высокочастотное (13,56 МГц) осциллирующее поле генерируется в рабочей камере, изготовленной из нержавеющей стали и кварца

·         Энергия ионов менее 12 эВ

·         Система совместима с держателями образцов для просвечивающих электронных микроскопов следующих производителей:

1.       Thermo Fisher Scientific/Philips Electron Optics

2.       Hitachi High Technologies America Inc.

3.       JEOL Ltd.

4.       Carl Zeiss Microscopy/LEO Electron Microscopes

5.       Topcon Corp.

Вакуумная система

·         Безмасляный турбомолекулярный насос и многоступенчатый диафрагменный насос

·         Давление 1 x 10-7 мбар

Рабочие газы

·         25% кислорода и 75% аргона

·         Номинальное давление газов 200 кПа

·         Скорость подачи рабочих газов устанавливается предприятием-изготовителем. Изменить скорость потока можно с помощью расположенного на сервисной панели потенциометра

Размеры (ШхВхГ)

59 см x 52 см x 59 см

Вес

60,6 кг

Интерфейс управления

·         Единая контрольная панель, позволяющая создать вакуум, зажечь плазму, а также задать время работы

·         Таймер автоматической остановки процесса очистки

·         Легкий доступ к сервисной панели

Напряжение питания

100/120/220/240 В АС, 50/60 Гц, мощность 660 Вт

Гарантия

2 года

Осциллирующее поле : 13,56 МГц
Энергия ионов : менее 12 эВ
Вакуумная система: давление 1 x 10-7 мбар
Рабочие газы: 25% кислорода и 75% аргона
Похожие товары
Обратите внимание на похожие модели и аналоги, как альтернативу вашему выбору.