пн-пт  10:00 - 19:00

1020 Plasma Cleaner Fischione - установка плазменной очистки

Эффективная очистка образцов для электронной микроскопии от органического углерода

Все характеристики
Производитель: Fischione Instruments, Inc.
Цена по запросу
Отправить запрос на КП
Задать вопрос
Доставка
Бесплатно по всей России
Подробнее
Эффективная очистка образцов для электронной микроскопии от органического углерода
Описание
Характеристики
Документы
Оплата и доставка
Описание

Основные сведения об установке плазменной очистки 1020 Fischione

1020 Plasma Cleaner Fischione предназначена для плазменной очистки образцов непосредственно перед загрузкой в электронный микроскоп, удаления углеродосодержащих частиц для предотвращения их осаждения на поверхность образца в процессе формирования изображений или аналитических исследований. Система поддерживает следующие процессы:

  • Очистка образцов для просвечивающей и сканирующей электронной микроскопии одновременно с соответствующими держателями
  • Повышение качества изображений и эффективности аналитических исследований
  • Удаление ранее возникших углеродосодержащих загрязнений
  • Предотвращение последующих загрязнений
  • Отсутствие травления или осаждения материалов
  • Хранение в чистом вакууме

В установке плазменной очистки 1020 используется неравновесная высокочастотная плазма. Она образуется в результате взаимодействия свободных электронов, разогнанных с помощью осциллирующего электромагнитного поля до высоких скоростей, с атомами газа. Ионы плазмы, которые достигают поверхности образца, имеют энергию менее 12 эВ, что позволяет избежать заметного воздействия ионов на исследуемый материал. 

Очистка происходит в ходе реактивного плазменного травления, когда компоненты рабочего газа вступают в химическую реакцию с углеродосодержащими веществами на образце или держателе.  

Для оптимальной очистки компания Fischione рекомендует использовать газовую смесь, состоящую из 25% кислорода и 75% аргона. Кислородная плазма обладает высокой эффективностью устранения органических (углеводородных) загрязнений. В результате реакции образуются H2O, CO, и CO2, которые откачиваются из камеры вакуумной системой.

Преимущества установки плазменной очистки 1020 Fischione

  • Одновременная очистка образца и держателя
  • Очистка даже сильно загрязненных образцов за 2 минуты и менее
  • Отсутствие повреждений структуры и состава образца
  • Безмасляная вакуумная система
  • Управление с помощью передней панели с удобным интерфейсом
  • Подходит для боковых держателей образцов всех коммерчески доступных просвечивающих электронных микроскопов (ПЭМ) и сканирующих просвечивающих электронных микроскопов (СПЭМ)
  • Применяется в сканирующей электронной микроскопии (СЭМ) и других методах исследования поверхностей
  • Удобна для откачки воздуха из вакуумных контейнеров, предназначенных для хранения 

Особенности установки плазменной очистки 1020 Fischione

  • Совместная очистка образцов и держателей для электронной микроскопии 

Система плазменной очистки позволяет в автоматическом режиме быстро удалить органические (углеводородные) загрязнения с образцов и держателей, использующихся в электронной микроскопии. В ходе реактивного травления низкоэнергетическая плазма обеспечивает очистку образцов без негативного воздействия на их элементный состав или структуру. Управление системой плазменной очистки осуществляется с помощью эргономичной передней панели. Вакуум в камере создается эффективной безмасляной вакуумной системой. 

  • Повышение качества изображений и эффективности анализа 

Очистка происходит в ходе реактивного плазменного травления исключительно путем химической реакции компонентов рабочего газа с углеродосодержащими веществами на образце или держателе. Неравновесная высокочастотная плазма генерируется из газовой смеси в составе 25% кислорода и 75% аргона. Свободные электроны, разогнанные до высоких скоростей с помощью осциллирующего электромагнитного поля (13,56 МГц), взаимодействуют с атомами газа, в результате чего образуется плазма. Ионы плазмы, которые достигают поверхности образца, имеют энергию менее 12 эВ, что позволяет избежать негативного воздействия на исследуемый материал. 

Современные электронные микроскопы обладают источниками с высокой интенсивностью эмиссии, использование которых нередко приводит к образованию загрязнений на поверхности не прошедших предварительную плазменную очистку образцов. Наличие системы плазменной очистки дает уверенность в том, что углеродосодержащие загрязнения не повлияют на качество изображений и результаты исследований, даже в случае продолжительного рентгеноспектрального микроанализа при малых токах зонда. 

  • Стандартные и специализированные держатели образцов 

Система плазменной очистки позволяет работать с боковыми держателями образцов всех коммерчески доступных просвечивающих электронных микроскопов, а также обеспечивает подготовку образцов для сканирующей электронной микроскопии, в том числе и макрообразцов. Помимо этого, в составе системы имеется специальный порт, который дает возможность обработки образцов, размещенных на углеродных решетках.

Технические характеристики установки плазменной очистки 1020 Fischione

Система формирования плазмы

·         Высокочастотное (13,56 МГц) осциллирующее поле генерируется в рабочей камере, изготовленной из нержавеющей стали и кварца

·         Энергия ионов менее 12 эВ

·         Система совместима с держателями образцов для просвечивающих электронных микроскопов следующих производителей:

1.       Thermo Fisher Scientific/Philips Electron Optics

2.       Hitachi High Technologies America Inc.

3.       JEOL Ltd.

4.       Carl Zeiss Microscopy/LEO Electron Microscopes

5.       Topcon Corp.

Вакуумная система

·         Безмасляный турбомолекулярный насос и многоступенчатый диафрагменный насос

·         Давление 1 x 10-7 мбар

Рабочие газы

·         25% кислорода и 75% аргона

·         Номинальное давление газов 200 кПа

·         Скорость подачи рабочих газов устанавливается предприятием-изготовителем. Изменить скорость потока можно с помощью расположенного на сервисной панели потенциометра

Размеры (ШхВхГ)

59 см x 52 см x 59 см

Вес

60,6 кг

Интерфейс управления

·         Единая контрольная панель, позволяющая создать вакуум, зажечь плазму, а также задать время работы

·         Таймер автоматической остановки процесса очистки

·         Легкий доступ к сервисной панели

Напряжение питания

100/120/220/240 В АС, 50/60 Гц, мощность 660 Вт

Гарантия

2 года

Характеристики
Осциллирующее поле : 13,56 МГц
Энергия ионов : менее 12 эВ
Вакуумная система: давление 1 x 10-7 мбар
Рабочие газы: 25% кислорода и 75% аргона
Документы
Оплата и доставка
  • Отправьте запрос на сайте через форму обратной связи «ЗАКАЗАТЬ». Укажите необходимое количество товара и нужный способ доставки, любые другие детали запроса
  • Отправьте запрос на e-mail am@sernia.ru с темой «Запрос на оборудование», указав необходимое количество товара, сроки и способ доставки, любые другие детали запроса.
  • Позвоните по телефону +7 (495) 204-13-17 или 8 (800) 301-13-17 (бесплатный звонок для регионов), доб. 203, контактное лицо - Масюк Алексей Владимирович.