Установки ALD R-200 Standard PICOSUN предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).
- Детальное описание
- Документация
- Оплата и доставка
Описание R-200 ALD Picosun
Установка R-200 Picosun - это установка атомно-слоевого осаждения, АСО (аtomic layer deposition, ALD). Технология ALD на сегодняшний является наиболее перспективной, так как позволяет наносить сверхтонкие покрытия практически на любые типы поверхностей. Оборудование R-200 Standard — базовый инструмент для одиночной обработки или минипартии из 5 подложек для НИОКР; подложки диаметром до 200 мм.
Установки ALD R-200 Standard PICOSUN предназначены для проведения научно-исследовательских работ в различных сферах (компоненты на интегральных микросхемах, МЭМС-устройства, дисплеи, светодиоды, лазеры и 3D-объекты, такие как объективы, линзы, ювелирные украшения, монеты и медицинские импланты).
Особенности и преимущества
-
Оборудование R-серии Picosun имеет ручную или полуавтоматическую обработку. Позволяет производить напыление плёнок АСО на поверхности со сложной структурой, а также на образцы с высоким аспектным соотношением размеров и на наночастицы.
-
Гибкая конструкция ALD-установок Picosun обеспечивает получение тонких пленок самого высокого качества, а исключительная универсальность систем позволяет использовать их для удовлетворения потребностей и решения задач, которые возникнут в будущем.
-
Запатентованная конструкция камеры c горячими стенками и полностью раздельными вводами и контрольно-измерительными приборами обеспечивает работу с различного рода материалами: пластины, 3D-объекты, наночастицы, порошки.
-
Пленки, нанесенные с помощью оборудования Picosun, характеризуются отсутствием примесных частиц и исключительной однородностью даже на самых сложных пористых подложках, подложках с чрезвычайно большим соотношением сторон, образцах с наночастицами.
-
Системы Picosun ™ серии R оснащены высоко функциональными и легко заменяемыми источниками прекурсоров для жидких, газообразных и твердых химикатов;
-
Интеграция с защитными камерами, порошковыми камерами и разнообразными местными аналитическими системами обеспечивает гибкое и эффективное проведение исследовательских работ и надежные результаты независимо от области текущих или будущих научных интересов.
Технические характеристики P-200 Standard Picosun:
|
Количество вводов прекурсоров/ реагенты |
- до 6 источников с 4 отдельными вводами; |
| Тип и размер подложек |
- 50 – 200 мм одиночные подложки; |
|
Загрузка в реакционную камеру |
- Пневматический загрузчик (ручная загрузка) |
|
Рабочая температура |
-50 - 500 °C |
|
Технологические процессы |
Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2, TiN, AlN, металлы (Pt или Ir). |
| Доп.оборудование |
Усилитель диффузии Picoflow™, RGA, генератор N2, газоочиститель, специальные конструкции, возможность использования защитной камеры для инертной загрузки. |