Производитель:
FEI
Усовершенствованная версия модели Quanta 3D FEG. Versa 3D — двулучевой электронно-ионный микроскоп.
Разрешение в режиме электронов 0.8 нм при 30 кВ СПЭМ. Разрешение в режиме ионов 5 нм при 30 кВ СПЭМ.
Разрешение в режиме электронов 0.8 нм при 30 кВ СПЭМ. Разрешение в режиме ионов 5 нм при 30 кВ СПЭМ.
- Детальное описание
- Тех.характеристики
- Оплата и доставка
Универсальная двулучевая система для трехмерной визуализации, определения характеристик материалов, прототипирования и исследований, в том числе и в естественных условиях.
Сочетание в системе двух лучей позволяет исследовать поверхностные и подповерхностные области любых образцов (нанометрового и микрометрового масштаба), а также изготавливать кросс-секции объекта исследования.
Производит подготовку высококачественных образцов для исследований в просвечивающем электронном микроскопе (TEM).
Гибкость конфигурации вакуумного режима прибора позволяет исследовать токопроводящие образцы в в режиме высокого вакуума или токопроводящие и непроводящие образцы в режиме высокого и низкого вакуумов.
Программное обеспечение Auto Slice и View G3 позволяет выполнять трехмерный анализ характеристик широкого спектра материалов.
Имеет возможность проводить динамические эксперименты с газовым и термическим контролем.
Сочетание в системе двух лучей позволяет исследовать поверхностные и подповерхностные области любых образцов (нанометрового и микрометрового масштаба), а также изготавливать кросс-секции объекта исследования.
Производит подготовку высококачественных образцов для исследований в просвечивающем электронном микроскопе (TEM).
Гибкость конфигурации вакуумного режима прибора позволяет исследовать токопроводящие образцы в в режиме высокого вакуума или токопроводящие и непроводящие образцы в режиме высокого и низкого вакуумов.
Программное обеспечение Auto Slice и View G3 позволяет выполнять трехмерный анализ характеристик широкого спектра материалов.
Имеет возможность проводить динамические эксперименты с газовым и термическим контролем.
| Таблица значений разрешения электронного луча (нм) | Конфигурация системы Versa 3D | |||||
|
|
HiVac |
HiVac/LoVac |
HiVac/LoVac/ESEM | |||
| Режим высокого вакуума | ||||||
| Разрешение детектора вторичных электронов 30 кВ | 1,2 | 1,2 | 1,2 | |||
| Разрешение детектора вторичных электронов 30 кВ с PC* | 1,0 | 1,0 | 1,0 | |||
| Разрешение сканирующей просвечивающей электронной микроскопии 30 кВ | 0,8 | 0,8 | 0,8 | |||
| Разрешение детектора отраженных электронов 30 кВ | 2,5 | 2,5 | 2,5 | |||
| Разрешение детектора вторичных электронов 15 кВ | 1,5 | 1,5 | 1,5 | |||
| Разрешение детектора вторичных электронов 15 кВ | 1,3 | 1,3 | 1,3 | |||
| Разрешение детектора вторичных электронов 1 кВ | 2,9 | 2,9 | 2,9 | |||
| Разрешение детектора вторичных электронов 1 кВ с BD*+ICD* и PC* | 2,0 | 2,0 | 2,0 | |||
| Режим низкого вакуума* | ||||||
| Разрешение детектора вторичных электронов 30 кВ | 1,5 | 1,5 | ||||
| Разрешение детектора отраженных электронов 30 кВ | 2,5 | 2,5 | ||||
| Разрешение детектора вторичных электронов 3 кВ | 3,0 | 3,0 | ||||
| Режим естественной среды* | ||||||
| Разрешение детектора вторичных электронов 30 кВ | 1,5 | |||||
| Разрешение детектора вторичных электронов 3 кВ | 3,0 | |||||
|
* опциональные компоненты (PC = плазменный очиститель, BD = замедление луча, ICD – встроенный в колонну детектор) |
||||||
| Разрешение эл.пучка: | 0.8 нм при 30 кВ СПЭМ |
| Разрешение ионного пучка: | 5 нм при 30 кВ СПЭМ |