Vion Plasma FIB FEI - микроскоп с фокусированным ионным пучком

Описание Vion Plasma FIB

Основные преимущества:

• Повышение производительности за счет увеличения скорости травления материала более чем в 20 раз по сравнению с традиционными системами FIB на основе галлия
  
• Быстрое, точное кросс-секционирование позволяет обнаруживать дефекты и особенности внутренних слоев 
• Широкий спектр токов пучка для травления и получения изображений (от нескольких пА до более чем 1 мкА) 
• Использование возможностей химического осаждения для защиты характерных особенностей поверхности образца от повреждений
• Дополнительные возможности нейтрализатора заряда для проведения секционирования заряжающихся материалов 
• Дополнительный доступ к обратной стороне микросхемы при помощи запатентованной системы коаксиальной подачи газа

Применение:

• Анализ контактных площадок, межкристальных соединений 
• Удаление материала для проведения анализа отказов и неправильно изолированных структур 
• Контроль и разработка процесса соединения многоуровневых структур 
• Анализ дефектов совмещенных пластин и приборов MEMS