Соединяя
науку и технологии office@sernia.ru
+7 (495) 204-13-17
8 (800) 301-13-17

Метод глубинного реактивного ионного травления

Метод глубинного реактивного ионного травления Метод глубинного реактивного ионного травления

Глубинное реактивное ионное травление (DRIE)

Deep Reactive Ion Etching (DRIE) глубинное реактивное ионное травле­ние. Другое название — глубинное реактивное ионно-плазменное травле­ние. Относится к технологии сухого (плазменного) травления. В отличие от «просто» ионно-плазменного травления, в реактивном ионно-плазменном травлении вместо плазмы инертного газа используется разряд в молекуляр­ных газах. Последние содержат один или более атомов галогенов в своих молекулах. Выбор таких газов объясняется тем, что образуемые ими в плаз­ме элементы реагируют с материалами, подвергаемыми травлению, образуя летучие соединения.

При глубинном реактивном ионном травлении  газы вводятся над индуктивной катушкой, размещенной вокруг керамической трубки. ВЧ мощность подается как к катушке, так и к патрону (столику для пластины) для создания плазмы. Подложка помещается на патрон и, подобно технологии RIE, подложка приобретает потенциал, ускоряющий травление благодаря бомбардировке ионами, выведенным из плазмы в сторону вытравливаемой поверхности. Введение дополнительных газов может вызвать различную реакцию. При таком способе профиль обычно является анизотропными.


icp-with-plasma_1.jpg

Рис.1. На рис.1 изображена схема установки реактивно-ионного травления

Измерять смещение постоянного тока (DC Bias) можно на патроне, что даёт хорошее количественное представление травления.

Данный процесс отличает очень высокая скорость травления, так что вы можете травить кремниевую пластину насквозь, как при процессе TSV (through silicon via), при этом расходуется большое количество химикатов на основе фтора.

Этот метод используется для глубокого травления полупроводников, а также известен как источник высокой плотности плазмы.


Установка глубокого реактивного ионного травления Minilock-Phantom DRIE

Phantom Minilock.jpg

Компания Trion Technologies -  производитель систем плазмохимического травления и осаждения  с 1989 - разработала установку Minilock-Phantom, которая подходит для разных методов травления: DRIE, RIE; RIE+ICP.

Minilock-Phantom DRIE - это установка глубокого реактивного ионного травления, разработанная для травления канавок в кремнии, а также с помощью быстрого переключения газов на основе фтора.

Малая занимаемая площадь и надёжная конструкция делают систему идеальной для исследовательских и экспериментальных целей.

Модуль может использоваться для работы только с одной подложкой или подключён к другим  кластерным платформам Trion Technologies.

Применение установок DRIE

  • глубокое травление канавок в кремнии,
  • МЭМС.
Если Вас заинтересовало данное оборудование, обращайтесь в нашу компанию. Наши специалисты расскажут подробно об установках реактивно-ионного травления и сориентируют Вас по ценам на продукцию. Присылайте свои вопросы на электронную почту: am@sernia.ru.

ПОДРОБНЕЕ ОБ УСТАНОВКАХ Minilock-Phantom>>