Соединяя
науку и технологии office@sernia.ru
+7 (495) 204-13-17
8 (800) 301-13-17

Phantom III Trion - установка плазмохимического травления для лабораторий

Phantom III Trion - установка плазмохимического травления для лабораторий
Цена: По запросу
Производитель: Trion Technology Flag
Лабораторная установка плазмохимического травления. Поддерживает процессы: RIE; RIE+ICP.
  • Описание
  • Документация

Установка плазмохимического травления Phantom III Trion

Phantom III Trion — установка плазмохимического травления (RIE; RIE+ICP) для лабораторий. Установка может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода. Опционально доступен ICP (индуктивно-связанная плазма) реактор.

Технологические процессы

  • RIE (Reactive Ion Etch — реактивное ионное травление) — технология травления, используемая в микроэлектронике. Химически активная плазма используется для удаления материала с подложки. Плазма создаётся при низком давлении при помощи газового разряда. Поступающие из плазмы ионы ускоряются за счёт разности потенциалов между ней и подложкой. Совместное действие химических реакций, ионного распыления и ионной активации приводит к разрушению материала подложки, образованию летучих соединений и десорбции их с поверхности.

  • ICP (inductively coupled plasma - индуктивно-связанная плазма) — плазма, образующаяся внутри разрядной камеры или иного плазменного реактора при приложении высокочастотного переменного магнитного поля. ICP зажигается и поддерживается за счёт циклических индуцированных вихрей электрического тока свободных электронов (и ионов) в плазме. Для возбуждения ICP обычно используется переменное электромагнитное поле на частоте 1 – 100 МГц.

Спецификация Phantom III Trion:

Вакуумная система
Турбомолекулярный насос 300 л/с

Форвакуумный механический насос 27 cfm или 17 cfm
Автоматический контроль давления в реакционной камере
Реакционная камера Стандартная - RIE 

С источником индуктивно-связанной плазмы – ICP (опционально)

 ВЧ генератор
13,56 МГц

600 Вт для RIE и ICP
1200 Вт (опционально)
3000 Вт (опционально для RIE)

Держатель
200 или 300 мм (опционально изготавливается крепление для кусочков)
Дополнительно доступна опция держателя с электростатическим прижимом и охлаждением гелием.

Детектор конечной точки (End-Point)
Интерферометр

Оптический спектрометр

Система управления
ПО (разработано Trion Technology) на базе Windows

Сенсорный экран

Охлаждение реактора
 (опционально)(требуется  поддержание температуры в  районе 18-20 oС)
Циркуляционный чиллер Polyscience 6700

Термостабилизация нижнего   электрода (опционально)
Термостабилизация в диапазоне от -20 до +150 (больший диапазон по запросу)

Максимальное количество газов
До 12

Процессы
Возможна поставка системы с готовыми процессами по запросу

Требования к подаче технологических газов

Пользователь должен обеспечить подачу технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ.  Количество газов: определяется технологическими процессами.  Давление в линии: 1-3 атм. Трубопровод: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой. Тип соединения: VCR.