Оборудование Trion для плазмохимического травления
Компания Trion, производитель систем плазмохимического травления и осаждения тонких пленок, разработала новую лабораторную, настольную модель для травления диэлектриков - Sirus T2.Работа системы основана на технологии реактивно-ионного травления (Reactive Ion Etch, RIE) - технологии травления, где для удаления материала с подложки используется химически активная плазма. Плазма создаётся при низком давлении при помощи газового разряда. Поступающие из плазмы ионы ускоряются за счёт разности потенциалов между ней и подложкой. Совместное действие химических реакций, ионного распыления и ионной активации приводит к разрушению материала подложки, образованию летучих соединений и десорбции их с поверхности.
SIRUS T2 - настольная система реактивно-ионного плазмохимического травления (RIE)
Sirus T2 (базовая модель) - система плазмохимического реактивно-ионного травления (RIE) на основе фторсодержащих газов.
Система предназначена для травления диэлектриков и тонких пленок. Малые размеры и надежная конструкция делают Sirus T2 незаменимой для лабораторных условий.
Система может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода.
СОСТАВ СИСТЕМЫ:
- Реактор с нижним электродом ⍉ 200 (максимальный размер образца - ⍉ 200).
- Система управления на основе ПК с сенсорным управлением.Два контроллера потока газов (опционально – до 4).
- Автоматическое согласующее устройство с ВЧ генератором 13,56 МГц 600Вт.
- Система аварийного отключения
- Автоматическая система управления давлением.
- Турбомолекулярный насос 170 л/с.
- Форвакуумный насос 660 л/мин.
ТРЕБОВАНИЯ К ПОДАЧЕ ГАЗОВ:
Пользователь должен обеспечить подачу технологических газов к системе в соответствии с требованиями ТБ РФ.
- КОЛИЧЕСТВО ГАЗОВ: определяется технологическими процессами
- ДАВЛЕНИИ В ЛИНИИ: 1-3 атм.
- ТРУБОПРОВОД: стальная трубка для чистых газов с электрополировкой
- ТИП СОЕДИНЕНИЯ: VCR.