Технологическое оборудование
Trion Technology
Компания Trion — производитель систем плазмохимического травления и осаждения. Основана в 1989 году. Компанией поставлено и установлено более 500 систем по всему миру. Исследовательская деятельность компании направлена на полную проверку оборудования Trion в реальных условиях производства, обеспечение конечного решения проблемы пользователя, разработку новых технологических процессов для производства.
Picosun
Компания Picosun разрабатывает и производит промышленные и лабораторные установки для нанесения тонких пленок. Оборудование Picosun обеспечивает высочайшее качество процессов, удовлетворяя самым жестким требованиям по производительности и надежности. Для научно-исследовательских организаций оборудование Picosun предлагает многофункциональные, модульные установки, масштабируемые до нужд производства. Надежные, эффективные, компактные и простые в использовании инструменты PICOSUN™ для проведения АСО были выбраны для ежедневной работы во всех типах приложений микро- и нанотехнологий ведущими промышленными предприятиями и научно-исследовательскими организациями во всём мире.
Nissene Technology Group
Компания Nisene Technology Group специализируется на разработке и производстве автоматических систем, предназначенных для декапсулирования микросхем с целью проведения анализа отказов.Опыт компании в этой области составляет более 30 с лишним лет. За это время Nisene разработала и запатентовала различные по сложности системы: от простых и несложных моделей серии JetEtch через серию 350 до продвинутых моделей серии JetEtch Pro. Компания стремится постоянно повышать уровень стандартов выпускаемой продукции. Новейшая модель JetEtch Pro
является кульминацией проводимой компанией R&D разработок и внедрения в производство предложений клиентов, работающих на данном оборудовании.
Plassys
Plassys - французская компания, основанная в 1987 году. Основная деятельность компании заключается в разработке и производстве оборудования для травления и осаждения тонких пленок. Серия продуктов PLASSYS применяется для термического, электронно-лучевого и магнетронного напыления, выращивание алмазов CVD методом, осаждения с ионным ассистированием, а также для ионного травления. Технология PLASSYS для тонких пленок применяется в полупроводниках, сверхпроводниках, сенсорах, для нанесения трибологических (защитных) и оптических слоев.