Небольшая установка плазмохимического травления c вакуумным шлюзом промышленного назначения. Установка может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода.
Настольная, лабораторная, базовая модель. Sirus T2 Trion (RIE) - установка плазмохимического травления. Может использоваться для любых процессов с применением фторных газов и кислорода.
Источники индуктивно связанной плазмы (ICP): размер пучка 14 или 20 см Плотность тока: до 4 мA/см2 Диапазон энергий: от 100 до 1000 эВ
Установки ионного травления двух типов: реактивное травление ионным лучом (RIBE), травление посредством ионного луча с химическим ассистированием (CAIBE)
НОВИНКА!!!
Minilock Duo Trion – компактная система плазмохимического травления или осаждения.
Имеет 2 реактора, каждый из которых можно использовать под следующие процессы травления или осаждения: PR Strip, RIE, PE, ICP, DRIE, PECVD, HDCVD.
Реактивное ионное травление, РИТ (Reactive Ion Etch, RIE) - технология травления, при котором химически активная плазма используется для удаления материала с подложки.
