Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы (ПХГФО)

Minilock ALD — установка для осаждения тонких пленок в тепловом и плазменном режимах

Небольшая установка плазмохимического травления c вакуумным шлюзом промышленного назначения. Установка может использоваться для любых процессов плазмохимического травления с использованием фторных газов и кислорода.

Orion III PECVD — установка для осаждения тонких плёнок из газовой фазы в вакууме. Предназначена для лабораторного применения.

Настольная, лабораторная, базовая модель. Sirus T2 Trion (RIE) - установка плазмохимического травления. Может использоваться для любых процессов с применением фторных газов и кислорода. 

Новейшая система плазменной декапсуляции PlasmaEtch Nisene отвечает передовым мировым стандартам в области анализа отказов, позволяя работать с небольшими по размеру структурами, содержащими чувствительные к внешнему воздействию компоненты.