Соединяя
науку и технологии office@sernia.ru
+7 (495) 204-13-17
8 (800) 301-13-17

Установка атомно-слоевого осаждения R-200 Standard Picosun

Установка атомно-слоевого осаждения R-200 Standard Picosun
Цена: По запросу
Производитель: Picosun Flag
R-200 Standard Picosun — атомно-слоевое осаждение для исследований и разработок
  • Описание
  • Документация
Атомно-слоевое осаждение, АСО (аtomic layer deposition) — химический метод нанесения сверхтонких плёнок из газовой фазы. Рост плёнок осуществляется за счёт последовательного нанесения атомных слоев, обеспечивая точный контроль толщины плёнки и ее химического состава. На сегодняшний день технология ALD (АСО) является наиболее перспективной, так как позволяет наносить сверхтонкие покрытия практически на любые типы поверхностей.

Оборудование R-серии Picosun имеет ручную или полуавтоматическую обработку. Позволяет производить напыление плёнок АСО на поверхности со сложной структурой, а также на образцы с высоким аспектным соотношением размеров и на наночастицы. 

Оборудование R-200 Standard — базовый инструмент для одиночной обработки или минипартии из 5 подложек для НИОКР; подложки диаметром до 200 мм.

Технические особенности P-200 Pro Picosun:

Количество вводов прекурсоров/  реагенты 
Имеет 4 ввода прекурсоров/ до 6 реагентов 
Жидкостные, твердые, газообразные, озон
Тип и размер подложек 50 – 200 мм одиночные подложки;

минипартия из 5 подложек по 150 мм; 
156 мм x 156 мм кремниевые подложки для фотовольтаики;
трёхмерные объекты (метал, керамика, полимеры); 
порошки и частицы; 
сквозные пористые образцы;
образцы, имеющие микроканавки с высоким аспектным соотношением размеров. 

Загрузка в реакционную камеру
Пневматический загрузчик (ручная загрузка)

Загрузочный шлюз с магнитным манипулятором

 Рабочая температура
50 - 500 °C, более высокие - по согласованию

Вес и размеры

Вес
350 кг
Размеры Зависит от доп.оборудования
минимальный: 146 см х 146 см х 84 см; 
максимальный: 189 см х 240 см х 111 см