Установки для атомно слоевого осаждения применяется для серийного производства и в научно-исследовательских лабораториях для нанесения тонких пленок для формирования наноразмерной топологии. В зависимости от использованного вещества, покрытие может защищать изделие от травления, проводить тепло, играть роль герметика и т.д.
Метод
Атомно-слоевое осаждение – сложный технологический процесс нанесения сверхтонких пленок путем последовательных химических реакций между газом и образцом. Покрытие наращивается при последовательном нанесении атомных слоев. Технология позволяет контролировать толщину и химический состав пленки. В стандартных условиях процесс проводится при 200-400°C, но при использовании плазменного стимулирования в установке АСО позволяет наносить пленки при комнатной температуре. Покрытия, получаемые с помощью этой технологии, отличаются:
- высокой однородностью;
- устойчивостью к механическим повреждениям;
- малой толщиной.
Большинство реакций происходит с участием 2 химических соединений (прекурсоров). С помощью данного метода могут осаждаться простые и сложные оксиды, металлы, нитриды, полупроводники. На последнем этапе процесса излишки химических элементов удаляются из камеры. Технология применяется при разработке новых сенсорных систем, производстве МЭМС, OLED, графеновых транзисторов, НЭМС. Ультратонкие пленки часто используют в качестве фильтров в ультрафиолетовом и инфракрасном диапазоне.
В компании Sernia вы сможете купить ALD установки для промышленного производства и научных изысканий. Наши инженеры вас проконсультируют и помогут подобрать подходящее оборудование для решения поставленных задач. Стоимость и технические характеристики оборудования, сроки и условия доставки уточняйте у менеджеров Sernia.